广东水油光刻胶国产厂家

吉田半导体突破光刻胶共性难题，提升行业生产效率，通过优化材料配方与工艺，吉田半导体解决光刻胶留膜率低、蚀刻损伤等共性问题，助力客户降本增效。
针对传统光刻胶留膜率低、蚀刻损伤严重等问题，吉田半导体研发的 T150A KrF 光刻胶留膜率较同类产品高 8%，密集图形侧壁垂直度达标率提升 15%。其纳米压印光刻胶采用特殊交联技术，在显影过程中减少有机溶剂对有机半导体的损伤，使芯片良率提升至 99.8%。这些技术突破有效降低客户生产成本，推动行业生产效率提升。半导体光刻胶：技术领域取得里程碑。广东水油光刻胶国产厂家

1. 全品类覆盖
   吉田半导体产品线涵盖正性 / 负性光刻胶、纳米压印光刻胶、LCD 光刻胶、厚膜光刻胶及水性光刻胶等，覆盖芯片制造、显示面板、PCB 及微纳加工等多领域需求，技术布局全面性于多数国内厂商。
2. 关键技术突破
   纳米压印技术：JT-2000 纳米压印光刻胶耐高温达 250℃，支持纳米级精度图案复制，适用于第三代半导体（GaN/SiC）及 Mini LED 等新兴领域，技术指标接近国际先进水平。
   水性环保配方：JT-1200 水性感光胶以水为溶剂替代传统有机溶剂，低 VOC 排放，符合 RoHS 和 REACH 标准，环保性能优于同类产品。
   厚膜工艺能力：JT-3001 厚板光刻胶膜厚可控（达数十微米），满足高密度像素阵列及 MEMS 器件的制造需求。

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，各有特性与优势，适用于不同领域。

LCD 正性光刻胶 YK - 200：具有较大曝光、高分辨率、良好涂布和附着力的特点，重量 100g。适用于液晶显示领域的光刻工艺，能确保 LCD 生产过程中图形的精确转移和良好的涂布效果。

半导体正性光刻胶 YK - 300：具备耐热耐酸、耐溶剂性、绝缘阻抗和紧密性，重量 100g。主要用于半导体制造工艺，满足半导体器件对光刻胶在化学稳定性和电气性能方面的要求。

耐腐蚀负性光刻胶 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蚀的特性，适用于在有腐蚀风险的光刻工艺中，比如一些特殊环境下的半导体加工或电路板制造。

纳米压印光刻胶哪家强?吉田半导体附着力提升 30%!广东水油光刻胶国产厂家

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