负的值表示厚度减小。上述蚀刻液组合物以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*选择性蚀刻上述氮化物膜为特征，上述氧化物膜推荐包含sio2，上述氮化物膜推荐包含sin。上述蚀刻液组合物用于3dnand闪存制造工序，能够使上述氮化物膜去除工序中发生的副反应氧化物的残留和氧化物膜损伤不良问题**少化。本发明的蚀刻液组合物包含如上选择的添加剂，在...

内部顶部两侧的震荡弹簧件14，震荡弹簧件14顶端的运转电机组13，运转电机组13顶端的控制面板15，内部中间部位的致密防腐杆16和致密防腐杆16内部内侧的搅动孔17共同组合而成，由于盐酸硝酸具有较强的腐蚀性，常规的搅拌装置容易被腐蚀，影响蚀刻液的质量，用防腐蚀的聚四氟乙烯搅拌浆进行搅拌，成本过高，且混合的效果不好，通过设置高效搅拌...

neutroyconductordeproteccióónentreloselementosdelsurtidor(emisordeimpulsos,solenoides,calculador,etc.),seconsiderasuficientelautilizacióndecableconcubiertaexteriordeP...

lapruebadepresiónhidráánresistentesaloshidrocarburosyalosaditivosquepuedanconteneryaseguraráónserándeunmaterialqueresistalacorrosiónypermitasufácilsustitucióóósitosse...

如前文所述，必须避免由该喷洒装置50喷洒而出的药液51滴入该基板20上而造成蚀刻不均的问题，因此，该复数个宣泄孔121的孔径a0必须要足够小，例如：孔径a0小于3mm，即可因毛细现象的作用，亦即该水滴于该宣泄孔121孔洞内的夹角θ等于该水滴与该第二挡板12的该上表面123所夹的接触角θ4，而达到防止位于该第二挡板12的该上表面12...

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以带动该基板20由该喷洒装置50下端部朝向该风刀装置40的该***风刀41下端部的方向移动。该风刀装置40设置于该挡液板结构10的一端部，该风刀装置40包括有一设置于该基板20上方的***风刀41，以及一设置于该基板20下方的第二风刀42，其中该***风刀41与该第二风刀42分别吹出一气体43至该基板20，以将该基板20上的一药液...

所述功能切换口3外部并联有高纯水输入管线1和沉淀剂输入管线2。所述二级过滤罐13的底部设有废液出口20。所述一级过滤罐16和二级过滤罐13内部均悬设有拦截固体成分的过滤筒。本实施例中，所述一级过滤罐16和二级过滤罐13的结构相同，以一级过滤罐16为例，由外壳1601、悬设于外壳1601内的过滤筒、扣装于过滤筒顶部的压盖1602组成...

常在印刷电路板，液晶显示面板，半导体集成电路等工艺制造过程中，需要通过多次图形掩膜照射曝光及蚀刻等工序在硅晶圆或玻璃基片上形成多层精密的微电路，形成微电路之后，进一步用剥离液将涂覆在微电路保护区域上作为掩膜的光刻胶除去。比如光电TFT-LCD生产工艺主要包含光阻涂布、显影、去光阻、相关清洗作业四大阶段，其中在去光阻阶段会产生部...

异丙醇是一种有机化合物，分子式是C3H8O，是正丙醇的同分异构体，别名二甲基甲醇、2-丙醇，行业中也作IPA。是无色透明液体，易燃，有似乙醇和BT混合物的气味。溶于水，也溶于醇、醚、苯、氯仿等多数有机溶剂。异丙醇是重要的化工产品和原料。主要用于制药、化妆品、塑料、香料、涂料等。2017年10月27日，世界卫生组织国际AI症研究机构公布的致...

本实用新型属于废液处理领域，尤其涉及一种酸性蚀刻液电解后液处理系统。背景技术：酸性蚀刻液是用于印制电路板线路制作和多层板内层制作的蚀刻液，随着电路板行业的迅速发展，产生的废液量越来越大，发掘的污染物种类也越来越多，对环境造成巨大的危害，此类问题也成为社会的重要课题。为了减少甚至杜绝此类污染的发生，我们需要对酸性蚀刻液进行回收循环利...

参考來源编辑文献陳怡儒;楊和慶、到手香、紀宗廷、林欣瑜、柯昭儀、雲琇卿、吳怡亭、盂美雲、林煜庭、鄭諺彌、陳亭瑋、陳昭明、葉宗桓、林宏儒、蘇怡帆.《圖解日用品安全全書》.臺灣:易博士出版社（城邦文化）.2011-05-17[2011].ISBN978-986-120-761-2（中文）.引文使用过时参数(帮助)引文格式1维护：日期与年(li...