浙江LCD光刻胶品牌

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，主要涵盖厚板、负性、正性、纳米压印及光刻胶等类别，以满足不同领域的需求。

厚板光刻胶：JT-3001 型号，具有优异的分辨率和感光度，抗深蚀刻性能良好，符合欧盟 ROHS 标准，保质期 1 年。适用于对精度和抗蚀刻要求高的厚板光刻工艺，如特定电路板制造。

负性光刻胶

• SU-3 负性光刻胶：分辨率优异，对比度良好，曝光灵敏度高，光源适应，重量 100g。常用于对曝光精度和光源适应性要求较高的微纳加工、半导体制造等领域。
• 负性光刻胶 JT-1000：有 1L 和 100g 两种规格，具有优异的分辨率、良好的对比度和高曝光灵敏度，光源适应。主要应用于对光刻精度要求高的领域，如半导体器件制造。
• 耐腐蚀负性光刻胶 JT-NF100：重量 1L，具备耐腐蚀特性。适用于有腐蚀风险的光刻工艺，如特殊环境下的半导体加工或电路板制造。

吉田半导体：以技术革新驱动光刻胶产业升级。浙江LCD光刻胶品牌

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，各有特性与优势，适用于不同领域。

LCD 正性光刻胶 YK - 200：具有较大曝光、高分辨率、良好涂布和附着力的特点，重量 100g。适用于液晶显示领域的光刻工艺，能确保 LCD 生产过程中图形的精确转移和良好的涂布效果。

半导体正性光刻胶 YK - 300：具备耐热耐酸、耐溶剂性、绝缘阻抗和紧密性，重量 100g。主要用于半导体制造工艺，满足半导体器件对光刻胶在化学稳定性和电气性能方面的要求。

耐腐蚀负性光刻胶 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蚀的特性，适用于在有腐蚀风险的光刻工艺中，比如一些特殊环境下的半导体加工或电路板制造。

吉田半导体获评 "专精特新" 企业，行业技术标准，以技术创新与标准化生产为，吉田半导体荣获 "广东省专精特新企业" 称号，树立行业。
凭借在光刻胶领域的表现，吉田半导体获评 "广东省专精特新企业"" "，承担多项国家 02 专项课题。公司主导制定《半导体光刻胶用树脂技术规范》等行业标准，推动国产材料标准化进程。未来，吉田半导体将继续以" 中国半导体材料方案提供商 "为愿景，深化技术研发与市场拓展，为全球半导体产业发展贡献" 中国力量 "。吉田半导体强化研发，布局下一代光刻技术。合肥UV纳米光刻胶厂家

吉田半导体光刻胶，45nm 制程验证，国产替代方案!浙江LCD光刻胶品牌