福建应用BOE蚀刻液供应

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    LaLey21/1992,de16dejulio,deIndustria,señala,enelapartado5delartículo12,que«losReglamentosdeSeguridadIndustrialdeámbitoestatalseaprobaránporelGobiernodelaNación,sinperjuiciodequelasComunidadesAutónomas,concompetencialegislativasobreindustria,puedanintroducirrequisitosadicionalessobrelasmismasmateriascuandosetratedeinstalacionesradicadasensuterritorio».Deacuerdoconello,sehaelaboradolaInstrucciónTécnicaComplementaria(ITC)MI-IP04,referentealasinstalacionesfijasparadistribuciónalpormenordecarburantesycombustiblespetrolíferoseninstalacionesdeventaalpúblico,yenlaquesehantenidoencuentalassolucionestécnicasdisponiblesenelactualniveldeconocimientosylaexperienciapráónhasidosometidaalprocedimientodeinformaciónenmateriadenormasyreglamentacionestécnicasprevistoenelRealDecreto1168/1995,de7dejulio,porelqueseincorporaalderechointernolaDirectiva94/10/CEEdelParlamentoEuropeoydelConsejo,de23demarzo,quemodificalaDirectiva83/189/CEE,ía。河南了解BOE蚀刻液批量定制博洋boe蚀刻液 提供微电子领域个性化解决方案！

    所述的磷酸浓度为82-87％。进一步地，本发明涉及上述蚀刻液，醇醚类的含量为％。进一步地，本发明涉及上述蚀刻液，表面活性剂的含量为％。进一步地，本发明涉及上述蚀刻液，所述的醇醚类为选自二乙二醇单甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇单甲醚、三甘醇单丁醚等中的至少一种；表面活性剂为选自脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯moa-7p、壬基酚聚氧乙烯醚np-10、聚乙二醇硬脂酸酯egms、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸钠、月桂酰氨乙基硫酸钠、醇醚羧酸盐等中的至少一种。进一步地，在使用本发明的蚀刻液进行氮化硅层蚀刻时，蚀刻温度为152-165℃，蚀刻时间为5-60min。通过在磷酸中添加醇醚类和表面活性剂，改善了磷酸的浸润性和表面张力，明显提高了蚀刻液对氮化硅层的润湿和蚀刻均匀性。为了便于验证氮化硅薄膜层的蚀刻均匀性，本发明使用淀积了氮化硅薄膜的晶圆样片(初始厚度约为)。蚀刻液配制完成后，先使用表面张力仪检测该蚀刻液的表面张力；然后将氮化硅晶圆片切割成1cm*3cm的小样片，采用超纯水清洗和氮气吹干后，使用接触角测量仪检测蚀刻液对氮化硅层的接触角大小。在蚀刻前，使用椭圆偏振光谱仪对氮化硅样片取不同位置共6个点进行厚度的测量。

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