当前级别腔室101对应的过滤器30被薄膜碎屑阻塞后,通过阀门开关60关闭当前级别腔室101对应的存储箱20与过滤器30之间的液体流通,从而可以在阀门开关60关闭后取下被阻塞的过滤器30进行清理并不会导致之后的下一级腔室102的剥离进程无法继续。其中,腔室10用于按照处于剥离制程的玻璃基板的传送方向逐级向玻璃基板分别提供剥离液;与多个腔室10分别对应连接的多个存储箱20,各级腔室10分别通过管道与相应的存储箱20连接,存储箱20用于收集和存储来自当前级腔室101的经历剥离制程的剥离液;过滤器30用于过滤来自当前级腔室101的存储箱20的剥离液,并且过滤器30还可以通过管道与下一级腔室102连接,从而过滤器30可以将过滤后的剥离液输送给下一级腔室102。各腔室10设计为适合进行剥离制程,用于向制程中的玻璃基板供给剥离液,具体结构可参考现有设计在此不再赘述。各级腔室10分别于相应的存储箱20通过管道连接,腔室10中经历剥离制程后的剥离液可以经管道输送至存储箱20中,由存储箱20来收集和存储。各级腔室10的存储箱20分别与相应的过滤器30通过管道连接,经存储箱20处理后的剥离液再经相应的过滤器30过滤后才经管道输送至下一级腔室102。 剥离液适用于哪些行业。安徽ITO蚀刻液剥离液供应商
从而可以在阀门开关60关闭后取下被阻塞的过滤器30进行清理并不会导致之后的下一级腔室102的剥离进程无法继续。其中,腔室10用于按照处于剥离制程的玻璃基板的传送方向逐级向玻璃基板分别提供剥离液;与多个腔室10分别对应连接的多个存储箱20,各级腔室10分别通过管道与相应的存储箱20连接,存储箱20用于收集和存储来自当前级腔室101的经历剥离制程的剥离液;过滤器30用于过滤来自当前级腔室101的存储箱20的剥离液,并且过滤器30还可以通过管道与下一级腔室102连接,从而过滤器30可以将过滤后的剥离液输送给下一级腔室102。各腔室10设计为适合进行剥离制程,用于向制程中的玻璃基板供给剥离液,具体结构可参考现有设计在此不再赘述。各级腔室10分别于相应的存储箱20通过管道连接,腔室10中经历剥离制程后的剥离液可以经管道输送至存储箱20中,由存储箱20来收集和存储。各级腔室10的存储箱20分别与相应的过滤器30通过管道连接,经存储箱20处理后的剥离液再经相应的过滤器30过滤后才经管道输送至下一级腔室102。本申请中,腔室10及过滤器30可以采用与现有技术相同的设计。处于剥离制程中的玻璃基板。滁州BOE蚀刻液剥离液销售价格剥离液的价格哪家比较优惠?
能够除去抗蚀剂。用本发明剥离液处理施加有抗蚀剂的基材的条件没有特别限定,例如,可以举出在设为10~80℃的本发明剥离液中浸渍基材1~60分钟左右的条件、将设为10~80℃的本发明剥离液向基材喷雾1~60分钟左右的条件。需要说明的是,浸渍时,可以摇动基材,或对本发明剥离液施加超声波。抗蚀剂的种类没有特别限定,可以是例如干膜抗蚀剂、液体抗蚀剂等中的任一种。干膜抗蚀剂的种类也没有特别限定,例如推荐碱可溶型的干膜抗蚀剂。作为这样的碱可溶型的干膜抗蚀剂,例如,可以举出rd-1225(sap用25μm厚)(日立化成株式会社制)等。施加抗蚀剂的基材没有特别限定,例如,可以举出印刷布线板、半导体基板、平板显示器、引线框中使用的各种金属、合金所形成的、薄膜、基板、部件等。按照上述方式本发明剥离液能够从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂,因此能够在包括除去这样的抗蚀剂的工序的印刷布线板、半导体基板、平板显示器、引线框等的制造方法中使用。上述制造方法之中推荐包括从施加有抗蚀剂的基材除去抗蚀剂的工序的印刷布线板的制造方法,特别推荐基于半加成法的印刷布线板的制造方法。本发明剥离液能够除去的线/间距(l/s)没有特别限定。
但现有的回收装置普遍存在如下问题:剥离废液利用水洗装置水洗过滤出光刻胶树脂成分,回收率低。为了解决这一问题,现有技术通常再向剥离废液中加入沉淀剂继续反应,而后沉淀过滤出光刻胶树脂成分,但所得到的光刻胶树脂成分品质不宜再用于光刻胶原料,只能用于其他要求较低的树脂需求场所。技术实现要素:本实用新型的目的是为了提供一种结构设置更为合理、使用方便可靠的光刻胶废剥离液回收装置,从根本上解决现有回收装置回收率低的问题,同时分级回收输出线性酚醛树脂成分,分级储存,以用于不同场合,物尽其用。为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种光刻胶废剥离液回收装置,包括搅拌釜和与搅拌釜连通的过滤罐,搅拌釜顶部设有废剥离液投料口,其技术要点是:所述过滤罐的数量为两个,由一级过滤罐和二级过滤罐组成,所述一级过滤罐和二级过滤罐在垂直方向上位于搅拌釜下方,一级过滤罐和二级过滤罐的进料管路分别与搅拌釜底部连通,且进料管路上分别设有电磁阀,所述一级过滤罐的底部出液口连接有提升泵,所述提升泵的出料管路末端与搅拌釜顶部的循环料口连通,所述搅拌釜顶部另设有功能切换口。上海和辉光电用的哪家的剥离液?
图3是一现有技术光刻胶剥离去除示意图二,其离子注入步骤。图4是一现有技术光刻胶剥离去除示意图三,其显示离子注入后光刻胶形成了主要光刻胶层和第二光刻胶层。图5是一现有技术光刻胶剥离去除示意图四,其显示光刻胶膨胀。图6是一现有技术光刻胶剥离去除示意图五,其显示光刻胶炸裂到临近光刻胶。图7是一现有技术光刻胶剥离去除示意图六,其显示光刻胶去除残留。图8是本发明光刻胶剥离去除示意图一,其显示首先剥离去除主要光刻胶层。图9是本发明光刻胶剥离去除示意图二,其显示逐步剥离去除第二光刻胶层的中间过程。图10是本发明光刻胶剥离去除示意图三,其显示完全去除光刻胶后的衬底。图11是采用现有技术剥离去除光刻胶残留缺陷示意图。图12是采用本发明剥离去除光刻胶残留缺陷示意图。具体实施方式以下通过特定的具体实施例说明本发明的实施方式,本领域技术人员可由本说明书所公开的内容充分地了解本发明的其他优点与技术效果。本发明还可以通过不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点加以应用,在没有背离发明总的设计思路下进行各种修饰或改变。需说明的是,在不的情况下,以下实施例及实施例中的特征可以相互组合。剥离液的组成成分是什么;广东格林达剥离液配方技术
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使用当前级腔室相应的过滤器过滤来自当前级腔室的剥离液并将过滤后的剥离液传输至下一级腔室;若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关;取出被阻塞的所述过滤器。在一些实施例中,所述若所述过滤器被所述薄膜碎屑阻塞,则关闭连接被阻塞的所述过滤器的管道上的阀门开关包括:若所述过滤器包括多个并列排布的子过滤器,则关闭连接被阻塞的所述子过滤器的管道上的阀门开关。本申请实施例还提供一种剥离液机台,包括:依次顺序排列的多级腔室、每一级所述腔室对应连接一存储箱;过滤器,所述过滤器的一端设置通过管道与当前级腔室对应的存储箱连接,所述过滤器的另一端通过第二管道与下一级腔室连接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上设置有阀门开关开关。通过阀门开关控制连接每一级腔室的过滤器相互独立,从而在过滤器被阻塞时通过阀门开关将被堵塞的过滤器取下并不影响整体的剥离进程,提高生产效率。附图说明为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图**是本申请的一些实施例,对于本领域技术人员来讲。 安徽ITO蚀刻液剥离液供应商