企业商机
光刻机基本参数
  • 品牌
  • POLOS
  • 型号
  • BEAM
  • 类型
  • 激光蚀刻机
光刻机企业商机

微流体芯片制造的core工具!Polos光刻机可加工80 µm直径的开环谐振器和2 µm叉指电极,适用于传感器与执行器开发。结合双光子聚合技术(如Nanoscribe的2PP工艺),用户可扩展至3D微纳结构打印,为微型机器人及光学超材料提供多维度解决方案37。其与Lab14集团的协同合作,进一步推动工业级光学封装技术创新3。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。柔性电子:曲面 OLED 驱动电路漏电降 70%,弯曲半径达 1mm,适配可穿戴设备。北京POLOSBEAM-XL光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸

北京POLOSBEAM-XL光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸,光刻机

某生物力学实验室通过 Polos 光刻机,在单一芯片上集成了压阻式和电容式细胞力传感器。其多材料曝光技术在 20μm 的悬臂梁上同时制备金属电极与硅基压阻元件,传感器的力分辨率达 5pN,位移检测精度达 1nm。在心肌细胞收缩力检测中,该集成传感器实现了力 - 电信号的同步采集,发现收缩力峰值与动作电位时程的相关性达 0.92,为心脏电机械耦合机制研究提供了全新工具,相关论文发表于《Biophysical Journal》。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。安徽PSP光刻机光源波长405微米微流体领域:支持 1-100μm 微通道定制,助力organ芯片血管网络precise建模。

北京POLOSBEAM-XL光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸,光刻机

Polos-BESM在电子器件原型开发中展现高效性。例如,其软件支持GDS文件直接导入,多层曝光叠加功能简化了射频器件(如IDC电容器)的制造流程。研究团队利用同类设备成功制备了高频电路元件,验证了其在5G通信和物联网硬件中的潜力。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。

Polos-BESM XL Mk2专为6英寸晶圆设计,写入区域达155×155 mm,平台双向重复性精度0.1 µm,满足工业级需求。其搭载20x/0.75 NA尼康物镜和120 FPS高清摄像头,支持实时观测与多层对准。配套的BEAM Xplorer软件简化了复杂图案设计流程,内置高性能笔记本电脑实现快速数据处理,成为微机电系统(MEMS)和光子晶体研究的理想工具。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。德国技术基因:融合精密光学与自动化控制,确保设备高稳定性与长寿命。

北京POLOSBEAM-XL光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸,光刻机

在tumor转移机制研究中,某tumor研究中心利用 Polos 光刻机构建了仿生tumor微环境芯片。通过无掩模激光光刻技术,在 PDMS 基底上制造出三维tumor血管网络与间质纤维化结构,其中血管直径可精确控制在 10-50μm。实验显示,该芯片模拟的tumor微环境中,tumor细胞迁移速度较传统二维培养提升 2.3 倍,且化疗药物渗透效率降低 40%,与临床数据高度吻合。该团队通过软件实时调整通道曲率和细胞外基质密度,成功复现了tumor细胞上皮 - 间质转化(EMT)过程,相关成果发表于《Cancer Research》,并被用于新型抗转移药物的筛选平台开发。光学超材料突破:光子晶体结构precise制造,赋能超透镜与隐身技术研究。安徽德国桌面无掩模光刻机MAX层厚可达到10微米

Polos-BESM 光刻机:无掩模激光技术,成本降低 50%,任意图案轻松输入,适配实验室微纳加工。北京POLOSBEAM-XL光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸

德国 Polos 光刻机系列的一大突出优势,便是能够轻松输入任意图案进行曝光。在科研工作中,创新的设计理念往往需要快速验证,而 Polos 光刻机正满足了这一需求。科研人员无需花费大量时间和成本制作掩模,只需将设计图案导入系统,就能迅速开始光刻作业。​ 在生物医学工程领域,研究人员利用这一特性,快速制作出具有特殊结构的生物芯片,用于疾病诊断和药物筛选。在材料科学研究中,可根据不同材料特性,定制独特的图案结构,探索材料的新性能。这种灵活的图案输入方式,remarkable缩短了科研周期,加速科研成果的产出,让科研人员能够将更多精力投入到创新研究中。北京POLOSBEAM-XL光刻机MAX基材尺寸4英寸到6英寸

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某集成电路实验室利用 Polos 光刻机开发了基于相变材料的存算一体芯片。其激光直写技术在二氧化硅基底上实现了 100nm 间距的电极阵列,器件的读写速度达 10ns,较传统 SRAM 提升 100 倍。通过在电极间集成 20nm 厚的 Ge2Sb2Te5 相变材料,芯片实现了计算与存储的原位融合,能效比达 1TOPS/W,较传统冯・诺依曼架构提升 1000 倍。该技术被用于边缘计算设备,使图像识别延迟从 50ms 缩短至 5ms,相关芯片已进入小批量试产阶段。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件...

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