无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。微流体领域:支持 1-100μm 微通道定制,助力organ芯片血管网络precise建模。天津光刻机分辨率1.5微米
形状记忆合金、压电陶瓷等智能材料的微结构加工需要高精度图案定位。Polos 光刻机的亚微米级定位精度,帮助科研团队在镍钛合金薄膜上刻制出复杂驱动电路,成功制备出微型可编程抓手。该抓手在 40℃温场中可实现 0.1mm 行程的precise控制,抓取力达 50mN,较传统微加工方法性能提升 50%。该技术被应用于微纳操作机器人,在单细胞膜片钳实验中成功率从 40% 提升至 75%,为细胞级precise操作提供了关键工具。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。德国POLOS光刻机可以自动聚焦波长德国工艺:精密制造基因,10 年以上使用寿命,维护成本低,设备残值率达 60%。
SPS POLOS µ以桌面化设计降低设备投入成本,无需掩膜制备费用。其光束引擎通过压电驱动快速扫描,单次写入区域达400 µm,支持光刻胶如AZ5214E的高效曝光。研究案例显示,该设备成功制备了间距3 µm的微图案阵列和叉指电容器,助力纳米材料与柔性电子器件的快速原型验证。无掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。
上海有机化学研究所通过光刻技术制备多组分纳米纤维,实现了功能材料的精确组装。类似地,Polos系列设备可支持此类结构的可控加工,为新能源器件(如柔性电池)和智能材料提供技术基础3。设备的高重复性(0.1 µm)确保了科研成果的可转化性。掩模光刻技术可以随意进行纳米级图案化,无需使用速度慢且昂贵的光罩。这种便利对于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上没有任何妥协的情况下,将该技术带到了桌面上,进一步提升了其优势。微流体3D成型:复杂流道快速曝光,助力tumor筛查芯片与药物递送系统研发。
Polos光刻机与弗劳恩霍夫ILT的光束整形技术结合,可定制激光轮廓以优化能量分布,减少材料蒸发和飞溅,提升金属3D打印效率7。这种跨领域技术融合为工业级微纳制造(如光学元件封装)提供新思路,推动智能制造向高精度、低能耗方向发展Polos系列broad兼容AZ、SU-8等光刻胶,通过优化曝光参数(如能量密度与聚焦深度)实现不同材料的高质量加工。例如,使用AZ5214E时,可调节光束强度以减少侧壁粗糙度,提升微结构的功能性。这一特性使其在生物相容性器件(如仿生传感器)中表现outstanding26。Polos-BESM 光刻机:无掩模激光直写,50nm 精度,支持金属 / 聚合物同步加工,适配第三代半导体器件研发。德国POLOS光刻机可以自动聚焦波长
客户认可:全球 500 + 客户满意度达 98%,复购率 75%,技术支持响应时间 < 2 小时。天津光刻机分辨率1.5微米
某智能机器人实验室采用 Polos 光刻机制造了磁控微纳机器人。其激光直写技术在镍钛合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋桨结构,机器人在旋转磁场下的推进速度达 50μm/s,转向精度小于 5°。通过自定义三维运动轨迹,该机器人在微流控芯片中成功实现了单个红细胞的捕获与转运,操作成功率从传统方法的 40% 提升至 85%。其轻量化设计(质量 < 1μg)还支持在活细胞表面进行纳米级手术,相关成果入选《Science Robotics》年度创新技术。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加坡研究团队通过无缝集成硬件和软件组件,开发出一款紧凑且经济高效的 MLL 系统。通过与计算机辅助设计软件无缝集成,操作员可以轻松输入任意图案进行曝光。该系统占用空间小,非常适合研究实验室,并broad应用于微流体、电子学和纳/微机械系统等各个领域。该系统的经济高效性使其优势扩展到大学研究实验室以外的领域,为半导体和医疗公司提供了利用其功能的机会。天津光刻机分辨率1.5微米
某基因treatment团队采用 Polos 光刻机开发了微米级 DNA 递送载体。通过 STL 模型直接导入,在生物可降解聚合物表面刻制出 1-5μm 的蜂窝状微孔结构,载体的 DNA 负载量达 200μg/mg,较传统电穿孔法提升 5 倍。动物实验显示,该载体在肝脏靶向递送中,基因转染效率达 65%,且免疫原性降低 70%。其无掩模特性支持根据不同细胞表面受体定制载体形貌,在 CAR-T 细胞treatment中,CAR 基因导入效率从 30% 提升至 75%,相关技术已申请国际patent。无掩模激光光刻 (MLL) 是一种微加工技术,用于在基板上以高精度和高分辨率创建复杂图案。一个新加...