Nanoscribe双光子灰度光刻系统QuantumX,Nanoscribe的全球头一次创建的工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX，适用于制造微光学衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球头一次创建工业级双光子灰度光刻无掩模光刻系统QuantumX，适用于制造微光学衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的双光子聚合微纳3D打印技术，斯图加特大学和阿德莱德大学的研究人员联手澳大利亚医学研究中心的科学家们新研发的微型内窥镜。将12050微米直径的微光学器件直接打印在光纤上，构建了一款功能齐全的超薄像差校正光学相干断层扫描探头。这是迄今有报道的尺寸低值排名优先的自由曲面3D成像探头，包括导管鞘在内的直径只为0.457mm。专注于微纳米3D打印设备的额研发和应用。浙江TPPNanoscribe微纳加工系统
Nanoscribe的技术在多个领域都有广泛应用。在光子学领域，它可以制造光子晶体、超颖材料、激光分布回馈术(DFB Lasers)等。在微光学领域，它可以制造微光学器件和整合型光学。在微流道技术领域，它可以应用于生医芯片系统、物质研究开发与分析以及三维基础结构等方面。在生命科学领域，Nanoscribe的技术可以应用于细胞外数组结构、干细胞分离术、细胞成长研究、细胞迁移研究以及组织工程等方面。此外，Nanoscribe的技术还可以制造游泳microbots，用于精确高效地将药物送至身体的目标区域，以及制作极小的手术工具，用于显微外科手术。
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Nanoscribe的Photonic Professional GT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。
借助Nanoscribe双光子聚合技术特殊的高设计自由度和高精度特点，您可以制作具有微米级高精度机械元件和微机电系统。欢迎探索Nanoscribe针对快速原型设计和制造真正高精度的微纳零件的3D微纳加工解决方案。Nanoscribe的双光子灰度光刻激光直写技术(2GL®)可用于工业领域2.5D微纳米结构原型母版制作。2GL通过创新的设计重新定义了典型复杂结构微纳光学元件的微纳加工制造。该技术结合了灰度光刻的出色性能，以及双光子聚合的亚微米级分辨率和灵活性。PhotonicProfessionalGT2是目前全球精度达到上限的微纳3D打印机。该设备将双光子聚合的极高精度技术特点与跨尺度的微观3D打印完美结合，适合用于纳米、微米、中尺度以及厘米级别的快速成型。PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统可适用于科研和工业领域应用。我们的客户成功将微纳光学结构直接打印到光子组件上从而实现从边缘到表面的全方面耦合。Nanoscribe一直致力于推动各个科研领域，诸如力学超材料，微纳机器人等等。
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2双光子无掩模光刻系统的设计多功能性配合打印材料的多方面选择性，可以实现微机械元件的制作，例如用光敏聚合物，纳米颗粒复合物，或水凝胶打印的远程操控可移动微型机器人，并可以选择添加金属涂层。此外，微纳米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微机电系统（MEMS）。双光子灰度光刻技术可以一步实现真正具有出色形状精度的多级衍射光学元件（DOE），并且满足DOE纳米结构表面的横向和纵向分辨率达到亚微米量级。由于需要多次光刻，刻蚀和对准工艺，衍射光学元件（DOE）的传统制造耗时长且成本高。光固化光刻技术，咨询纳糯三维科技（上海）有限公司。浙江TPPNanoscribe微纳加工系统
Nanoscribe IP 系列光刻胶系列是用于高分辨率微纳加工的聚合物打印材料。浙江TPPNanoscribe微纳加工系统
拉曼光谱是针对于有机组织和生物组织的一种强大的分析技术，可以根据样品的个别光谱指纹对其进行定性，如细菌。拉曼散射的固有弱点可以通过金属化的微纳结构表面得到加强，从而创造出与样品相互作用的信号热点。在他们的研究中，科学家们使用双光子聚合技术（2PP）在光纤的表面3D打印了这些微纳结构，然后添加上一层薄薄的镀金涂层。在SERS测量中，激光被耦合到光纤中并激发光纤探针的微纳结构表面的信号热点。在与分析物的相互作用中，SERS信号就可产生并被光纤传感器收集。浙江TPPNanoscribe微纳加工系统
