优普纳的多孔砂轮显微组织调控技术,通过优化砂轮内部孔隙率与分布,大幅提升冷却液渗透效率,解决传统砂轮因散热不足导致的晶圆微裂纹问题。在东京精密HRG200X设备上,6吋SiC晶圆粗磨时,砂轮磨耗比只15%,且加工过程中温升降低40%,表面粗糙度稳定在Ra≤30nm。该技术不只延长砂轮寿命20%,还可适配高转速磨床,助力客户实现高效、低成本的批量生产。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮,品质有保证,欢迎您的随时致电咨询,为您提供满意的产品以及方案。优普纳砂轮的高性能陶瓷结合剂,赋予产品优异的耐磨性和韧性,确保在高负荷加工条件下的稳定性能。碳化硅减薄砂轮订做价格
江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮,凭借其高性能陶瓷结合剂和“Dmix+”制程工艺,在第三代半导体材料加工领域树立了新的目标。这种独特的结合剂配方不只赋予了砂轮强度高和韧性,还通过多孔显微组织的设计,实现了高研削性能和良好的散热效果。在实际应用中,无论是粗磨还是精磨,优普纳的砂轮都能保持稳定的性能,减少振动和损伤,确保加工后的晶圆表面质量优异。这种技术优势不只满足了半导体制造的需求,还为国产化替代提供了坚实的技术支持。砂轮对比在东京精密-HRG200X减薄机上,优普纳砂轮加工6吋SiC线割片,磨耗比为15%,Ra≤30nm,TTV≤3μm。
在半导体制造等精密加工领域,精磨减薄砂轮发挥着举足轻重的作用。其工作原理基于磨料的磨削作用,通过砂轮高速旋转,磨粒与工件表面产生强烈摩擦,从而实现材料的去除与减薄。以江苏优普纳科技有限公司的精磨减薄砂轮为例,在碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)等第三代半导体材料的加工中,砂轮中的磨粒凭借自身极高的硬度,切入坚硬且脆性大的半导体材料表面。磨粒的粒度分布经过精心设计,从粗粒度用于高效去除大量材料,到细粒度实现精密的表面修整,整个过程如同工匠精心雕琢艺术品。在磨削过程中,结合剂的作用不可或缺,它牢牢把持磨粒,使其在合适的时机发挥磨削功能,同时又能在磨粒磨损到一定程度时,适时让磨粒脱落,新的锋利磨粒得以露出,这一过程被称为砂轮的自锐性。优普纳的砂轮在结合剂的研发上投入大量精力,通过优化结合剂配方,实现了磨粒把持力与自锐性的完美平衡,确保在长时间的磨削作业中,砂轮始终保持稳定且高效的磨削性能,为半导体晶圆的高质量减薄加工奠定坚实基础。
精磨减薄砂轮的应用领域极为广,尤其是在半导体产业蓬勃发展的当下,其重要性愈发凸显。在半导体芯片制造环节,晶圆减薄是关键工序。随着芯片不断向小型化、高性能化发展,对晶圆减薄的精度和表面质量要求达到了近乎严苛的程度。江苏优普纳的精磨减薄砂轮,凭借优越的性能,成为众多半导体制造企业的优先选择。在SiC晶圆减薄中,可有效减小芯片封装体积,改善芯片的热扩散效率,提升电气性能和力学性能。此外,在光学领域,如非球面镜片的加工,精磨减薄砂轮也发挥着重要作用。非球面镜片具有独特的光学特性,能有效矫正像差,提高成像质量。优普纳的相关砂轮产品,通过精确控制磨削量和表面粗糙度,助力光学元件制造商生产出高精度的非球面镜片,应用于摄影镜头、望远镜、显微镜等光学仪器中。不仅如此,在精密机械制造、电子封装等领域,精磨减薄砂轮同样大显身手,为各行业的精密制造提供了有力支持,推动着相关产业不断向更高精度、更高性能方向发展。在6吋和8吋SiC线割片的加工中,优普纳砂轮均展现出优越性能,无论是粗磨还是精磨,达到行业更高加工标准。
江苏优普纳科技有限公司:碳化硅减薄砂轮已通过东京精密、DISCO等主流设备的兼容性测试,并获得多家国际半导体厂商的认证。例如,在DISCO-DFG8640设备上,优普纳砂轮连续加工1000片8吋SiC晶圆后,磨耗比仍稳定在200%以内,精度无衰减。这一表现不只达到进口砂轮水平,更以快速交付与本地化服务赢得客户青睐,成为国产替代优先选择的品牌。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮,品质有保证,欢迎您的随时致电咨询,为您提供满意的产品以及方案。砂轮于东京精密-HRG200X减薄机上,使8吋SiC线割片磨耗比达300% Ra≤3nm TTV≤2μm 彰显高精度与高磨耗比优势。SiC砂轮质量检测
通过持续的技术研发和工艺改进 优普纳碳化硅晶圆减薄砂轮在性能上不断突破 为国产半导体加工设备及耗材力量。碳化硅减薄砂轮订做价格
在半导体加工领域,精度和效率是关键。江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮,通过其超细金刚石磨粒和超高自锐性,实现了高磨削效率和低损伤的完美平衡。在东京精密-HRG200X减薄机的实际应用中,6吋和8吋SiC线割片的加工结果显示,表面粗糙度Ra值和总厚度变化TTV均达到了行业先进水平。这种高精度的加工能力,不只满足了半导体制造的需求,还为客户节省了大量时间和成本,助力优普纳在国产碳化硅减薄砂轮市场中占据重要地位。碳化硅减薄砂轮订做价格