EVG510® HE 热压印系统 应用:高度灵活的热压印系统,用于研发和小批量生产 EVG510® HE 半自动热压印系统设计用于对热塑性基材进行高精度压印。该设备配置有热压印腔室,其...
滤光片整平光谱响应。ND#0.5衰减整平滤波器.單倍整平滤波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#0.5衰减整平滤波器.ND#1衰减整平滤波器.單倍整平滤波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#1衰减整平滤波...
接触探头测量弯曲和难测的表面CP-1-1.3测量平面或球形样品,结实耐用的不锈钢单线圈。CP-1-AR-1.3可以抑制背面反射,对1.5mm厚的基板可抑制96%。钢制单线圈外加PVC涂层,蕞大可测厚度...
电介质成千上万的电解质薄膜被用于光学,半导体,以及其它数十个行业, 而Filmetrics的仪器几乎可以测量所有的薄膜。常见的电介质有:二氧化硅 – ZUI简单的材料之一, 主要是因为它在大部分光谱上...
涵盖面广的2D、3D形貌参数分析:表面三维轮廓仪可测量300余种2D、3D参数,无论加工的物件使用哪一种评定标准,都可以提供权面的检测结果作为评定依据,可轻松获取被测物件精确的线粗糙度、面粗糙度、轮廓...
如何使用高精度电容位移传感器?根据需要测量的位置变化范围、分辨率和精度的要求,选择合适的传感器类型和规格。常见的高精度电容位移传感器有平板式、扭转式和圆柱式等,可以根据应用场景的实际情况选择。将电容传...
涵盖面广的2D、3D形貌参数分析:表面三维轮廓仪可测量300余种2D、3D参数,无论加工的物件使用哪一种评定标准,都可以提供权面的检测结果作为评定依据,可轻松获取被测物件精确的线粗糙度、面粗糙度、轮廓...
光刻机处理结果:EVG在光刻技术方面的合心竞争力在于其掩模对准系统(EVG6xx和IQAligner系列)以及高度集成的涂层平台(EVG1xx系列)的高吞吐量的接近和接触曝光能力。EVG所有光刻设备平...
如何正确使用轮廓仪准备工作1.测量前准备。2.开启电脑、打开机器电源开关、检查机器启动是否正常。3.擦净工件被测表面。测量1.将测针正确、平稳、可靠地移动在工件被测表面上。2.工件固定确认工件不会出现...
铟锡氧化物与透明导电氧化物液晶显示器,有机发光二极管变异体,以及绝大多数平面显示器技术都依靠透明导电氧化物(TCO)来传输电流,并作每个发光元素的阳极。和任何薄膜工艺一样,了解组成显示器各...
薄膜应力分析仪是一种用于测试薄膜应力及其它特性的仪器。它利用光学干涉原理,实现对薄膜层的厚度和应力(含切向应力、法向应力)等参数的测量。薄膜应力测量目前已经被普遍应用于光刻胶、有机光电器件、光纤光学元...
光刻胶处理系统:EVG100系列光刻胶处理系统为光刻胶涂层和显影建立了质量和灵活性方面的新标准。EVG100系列的设计旨在提供蕞广范的工艺变革,其模块化功能可提供旋涂和喷涂,显影,烘烤和冷却模块,以满...