企业商机
酯类基本参数
  • 品牌
  • 广州印田新材料有限公司
  • 纯度级别
  • 超纯/高纯
  • 产品性状
  • 液态
酯类企业商机

3-甲氧基醋酸丁酯MBA气味低,溶解力好,具疏水性,符合当前环保潮流的产品。应用于涂料油墨:1.水性固化剂的开稀,如科思创BayhydurXP2655,巴斯夫的HW3280MBA,HW4000及万华化学水性固化剂等。2.电子导电油墨的溶剂,流平及致密性好,导电性能佳。3.汽车修补,防腐中的低挥发添加剂,防止干燥膜因稀释剂而发红或乳白色。4.提高涂料及烤瓷釉的流动性和光泽,改善流变性和刷涂能力,也用作异氰酸酯和环氧树脂体系的溶剂,它不腐蚀橡胶,可以用于机器辊涂。5.高固低粘体系,可以用MBA作为真溶剂提高溶解力。乙二醇丁醚醋酸酯可溶于许多有机溶剂,如醇和醚,但在水中的溶解度较低。添加剂油酸异辛酯IOAcas

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聚二氧基乙醇醚酯指的是含有乙二醇醚结构单元的聚醚酯类化合物。这类化合物通常是由二醇(如乙二醇)、二元酸(或酸酐)和环氧乙烷等原料,在催化剂作用下通过聚合反应制得。聚二氧基乙醇醚酯CMP的制备方法通常涉及以下步骤:1、原料准备:选择合适的二醇(如乙二醇)、二元酸(或酸酐)和环氧乙烷作为原料。2、聚合反应:在催化剂存在下,将原料加热至一定温度,使其发生聚合反应。反应过程中,环氧乙烷开环并与二醇和二元酸(或酸酐)反应,形成聚醚酯链。3、后处理:聚合反应完成后,对产物进行后处理,如去除未反应的原料、催化剂和副产物等,得到纯净的聚二氧基乙醇醚酯。反式油酸甲酯MOA合成3-甲氧基乙酸丁酯(MBA)溶于水,也溶于多数有机溶剂。

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马来酸二乙酯主要由顺丁烯二酸酐和乙醇在硫酸存在下酯化制得。此工艺有常压有苯酯化和负压无苯酯化两种。具体步骤如下:1、常压有苯酯化:将一定量的苯和乙醇加入酯化反应锅,投入顺丁烯二酸酐,在搅拌下滴加浓硫酸,通夹套蒸汽加热,使反应物在75℃左右进行酯化反应。生成的水与苯、乙醇通过三元共沸蒸馏除去,上层的苯、乙醇液回流人反应锅中。约13~14小时后,当蒸馏塔顶温度升至68.2℃,分离器下层水液位不再上升时,表明反应锅内水分已经全部蒸出,酯化反应完成。停止回流,继续蒸馏至95~100℃,蒸出苯和乙醇。冷却降温至50℃左右,用5%碳酸钠水溶液进行中和处理,水洗后再真空脱除残余的苯及乙醇,即得到产品顺丁烯二酸二乙酯。2、负压无苯酯化:顺丁烯二酸酐和乙醇在硫酸作用下酯化,在一定的真空和温度下将乙醇和反应生成的水呈气态带出,然后通过分馏塔分离出乙醇回流酯化,使反应趋向完全。这种方法能缩短反应周期,提高收率和产品质量,改善操作环境,国内生产厂大都采用此法。

尼龙酸二异丁酯(DIBA)的应用领域:1、聚氯乙烯制品:尼龙酸二异丁酯主要用于各种聚氯乙烯制品的增塑,如螺旋管、蛇皮管、门吊水带等。2、橡胶制品:可作为橡胶制品的增塑剂和溶剂,改善橡胶的加工性能和制品性能。3、涂料行业:尼龙酸二异丁酯还可作为高效环保型涂料的成膜助剂和高沸点溶剂,能够降低乳胶漆的最低成膜温度,促进乳胶漆成膜,并改善漆膜性能。

尼龙酸二异丁酯应储存在干燥、阴凉、通风的地方,防止受热、受潮、阳光暴晒和雨淋。常规液体要求运输,注意防水和密封,隔绝明火。 对苯二甲酸二甲酯DMT增强涂料的耐候性和附着力,广泛应用于电气绝缘材料、胶片制作等领域。

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乙二醇丁醚醋酸酯的主要应用领域:1、涂料领域:用作乳胶漆的助聚结剂,对多种漆有优良溶解性能,较广应用于多彩涂料和乳液涂料中。也是金属、家具喷漆及保护性涂料的溶剂。2、印刷油墨领域:由于挥发速度慢,可作丝网印刷油墨和聚苯乙烯涂料印花釉的溶剂。3、清洁剂领域:在清洁产品中用作去污剂和清洁剂成分。4、化妆品领域:在化妆品和个人护理产品中,常被用作稀释剂和溶剂成分。5、医药领域:在某些药物中,可以作为溶剂或载体使用。6、其他领域:还可用于金属、玻璃等表面清洗剂配方及作为化学试剂。此外,在电子化学品制造中可作为光刻胶稀释剂,在纺织印染助剂中可提升染料上染率等。3-甲氧基乙酸丁酯(MBA)是一种无色透明液体,味苦,略有气味,密度为0.95~0.96 g/cm³(20℃)。高纯度油酸甲酯MOA多少钱一吨

乙二醇丁醚醋酸酯化学式:CH3COOCH2CH2OC4H9;分子量:约为160;CAS登录号:112-07-2。添加剂油酸异辛酯IOAcas

3-甲氧基醋酸丁酯MBA气味低,溶解力好,具疏水性,符合当前环保潮流的产品。外观:无色透明液体;含量(%)≥99.5;密度/(kg/m3):0.95;沸点:172;水份%≤0.05;闪点(闭口杯)/℃:61℃;CAS号:4435-53-4;熔点:-80℃;挥发速率:75(Di-Et-Etherscale);折射率:1.408-1.410@20℃;水溶性:3%@20℃;粘度:0.71mPa*s@20℃。应用于电子及芯片行业1.光刻胶用的二次溶剂(微处理器),光刻胶树脂合成,光刻胶彩胶颜料液用溶剂。2.光刻胶(Photoresist)的稀释剂或剥离剂,帮助调节黏度并改善涂布均匀性。3.电子清洗剂:用于晶圆或显示面板制造中的精密清洗,去除残留光刻胶或颗粒。添加剂油酸异辛酯IOAcas

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