欢迎来到广东吉田半导体材料有限公司
联系电话: 0769-22898603-8001
首页
关于我们
产品中心
新闻中心
企业商机
联系我们
访问官网
询盘留言
企业商机
光刻胶基本参数
  • 品牌
  • 吉田半导体
  • 型号
  • 型号齐全
光刻胶企业商机

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品,各有特性与优势,适用于不同领域。

LCD 正性光刻胶 YK - 200:具有较大曝光、高分辨率、良好涂布和附着力的特点,重量 100g。适用于液晶显示领域的光刻工艺,能确保 LCD 生产过程中图形的精确转移和良好的涂布效果。

半导体正性光刻胶 YK - 300:具备耐热耐酸、耐溶剂性、绝缘阻抗和紧密性,重量 100g。主要用于半导体制造工艺,满足半导体器件对光刻胶在化学稳定性和电气性能方面的要求。

耐腐蚀负性光刻胶 JT - NF100:重量 1L,具有耐腐蚀的特性,适用于在有腐蚀风险的光刻工艺中,比如一些特殊环境下的半导体加工或电路板制造。 光刻胶是有什么东西?重庆低温光刻胶工厂

重庆低温光刻胶工厂,光刻胶

 感光机制

◦ 重氮型(双液型):需混合光敏剂(如二叠氮二苯乙烯二磺酸钠),曝光后通过交联反应固化,适用于精细图案(如PCB电路线宽≤0.15mm)。

◦ SBQ型(单液型):预混光敏剂,无需调配,感光度高(曝光时间缩短30%),适合快速制版(如服装印花)。

◦ 环保型:采用无铬配方(如CN10243143A),通过多元固化体系(热固化+光固化)实现12-15mJ/cm²快速曝光,分辨率达2μm,符合欧盟REACH标准。

 功能细分

◦ 耐溶剂型:如日本村上AD20,耐酒精、甲苯等溶剂,适用于电子油墨印刷。

◦ 耐水型:如瑞士科特1711,抗水性强,适合纺织品水性浆料。

◦ 厚版型:如德国Köppen厚版胶,单次涂布可达50μm,用于立体印刷。


典型应用场景:

• PCB制造:使用360目尼龙网+重氮感光胶,配合LED曝光(405nm波长),实现0.15mm线宽,耐酸性蚀刻液。

• 纺织印花:圆网制版采用9806A型感光胶,涂布厚度20μm,耐碱性染料色浆,耐印率超10万次。

• 包装印刷:柔版制版选用杜邦赛丽® Lightning LFH版材,UV-LED曝光+无溶剂工艺,碳排放降低40%。
上海低温光刻胶工厂光刻胶的显示面板领域。

重庆低温光刻胶工厂,光刻胶

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品,各有特性与优势,适用于不同领域。

厚板光刻胶 JT - 3001:具有优异的分辨率和感光度,抗深蚀刻性能良好。符合欧盟 ROHS 标准,保质期 1 年,适用于对光刻精度和抗蚀刻要求较高的厚板加工场景,如一些特殊的电路板制造。

SU - 3 负性光刻胶:分辨率优异,对比度良好,曝光灵敏度高,光源适应。重量为 100g,常用于对曝光精度和光源适应性要求较高的微纳加工、半导体制造等领域。

液晶平板显示器负性光刻胶 JT - 1000:有 1L 和 100g 两种规格,具有优异的分辨率,准确性和稳定性好。主要应用于液晶平板显示器的制造,能满足其对光刻胶高精度和稳定性的需求。

JT - 2000 UV 纳米压印光刻胶:耐强酸强碱,耐高温达 250°C,长期可靠性高,粘接强度高。重量 100g,适用于需要在特殊化学和高温环境下进行纳米压印光刻的工艺,如一些半导体器件的制造。

以无卤无铅配方与低 VOC 工艺为,吉田半导体打造环保光刻胶,助力电子产业低碳转型。面对全球环保趋势,吉田半导体推出无卤无铅锡膏与焊片,通过欧盟 RoHS 认证,焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻胶采用低 VOC 配方(<50g/L),符合欧盟 REACH 法规,生产过程中通过多级废气处理与水循环系统,实现零排放。公司严格执行 8S 现场管理,工业固废循环利用率超 90%,为新能源汽车、光伏储能等领域提供绿色材料解决方案,成为全球客户信赖的环保材料供应商。半导体材料方案选吉田,欧盟 REACH 合规,24 小时技术支持!

重庆低温光刻胶工厂,光刻胶

生产设备与工艺:从设计到制造的“木桶效应”

 前端设备的进口依赖
光刻胶生产所需的超临界流体萃取设备、纳米砂磨机等关键装备被德国耐驰、日本光洋等企业垄断。国内企业如拓帕实业虽推出砂磨机产品,但在研磨精度(如纳米级颗粒分散)上仍落后于国际水平。

 工艺集成的系统性短板
光刻胶生产涉及精密混合、过滤、包装等环节,需全流程数字化控制。国内企业因缺乏MES(制造执行系统)等智能管理工具,导致批次一致性波动。例如,鼎龙股份潜江工厂的KrF光刻胶产线虽实现自动化,但工艺参数波动仍较日本同类产线高约10%。

严苛光刻胶标准品质,吉田半导体绿色制造创新趋势。广西UV纳米光刻胶生产厂家

光刻胶解决方案找吉田,ISO 认证 + 8S 管理,良率达 98%!重庆低温光刻胶工厂

人才与生态:跨学科团队的“青黄不接”

 前段人才的结构性短缺
光刻胶研发需材料化学、半导体工艺、分析检测等多领域。国内高校相关专业毕业生30%进入光刻胶行业,且缺乏具有10年以上经验的工程师。日本企业通过“技术导师制”培养人才,而国内企业多依赖“挖角”,导致技术传承断裂。

 产业链协同的“孤岛效应”
光刻胶研发需与晶圆厂、设备商、检测机构深度协同。国内企业因信息不对称,常出现“材料性能与工艺需求不匹配”问题。例如,某国产KrF光刻胶因未考虑客户产线的显影液参数,导致良率损失20%。

重庆低温光刻胶工厂

与光刻胶相关的文章
厦门低温光刻胶感光胶 2025-06-24

关键工艺流程 涂布: ◦ 在晶圆/基板表面旋涂光刻胶,厚度控制在0.1-5μm(依制程精度调整),需均匀无气泡(旋涂转速500-5000rpm)。 前烘(Soft Bake): ◦ 加热(80-120℃)去除溶剂,固化胶膜,增强附着力(避免显影时边缘剥离)。 曝光: ◦ 光源匹配: ◦ G/I线胶:汞灯(适用于≥1μm线宽,如PCB、LCD)。 ◦ DUV胶(248nm/193nm):KrF/ArF准分子激光(用于28nm-1...

与光刻胶相关的问题
与光刻胶相关的标签
联系方式

企业:广东吉田半导体材料有限公司

联系人:刘工

手机:17324409390

电话:0769-22898603-8001

400电话:

传真:

邮箱:jitian2025@163.com

地址:广东省东莞市广东省东莞市松山湖园区科技十路5号15栋2单元203室

网址:http://jitianbdt.com/

信息来源于互联网 本站不为信息真实性负责

欢迎!您可以随时使用
在线留言软件与我沟通

知道了

undefined
微信扫一扫
在线咨询