苏州高温光刻胶多少钱

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，各有特性与优势，适用于不同领域。

LCD 正性光刻胶 YK - 200：具有较大曝光、高分辨率、良好涂布和附着力的特点，重量 100g。适用于液晶显示领域的光刻工艺，能确保 LCD 生产过程中图形的精确转移和良好的涂布效果。

半导体正性光刻胶 YK - 300：具备耐热耐酸、耐溶剂性、绝缘阻抗和紧密性，重量 100g。主要用于半导体制造工艺，满足半导体器件对光刻胶在化学稳定性和电气性能方面的要求。

耐腐蚀负性光刻胶 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蚀的特性，适用于在有腐蚀风险的光刻工艺中，比如一些特殊环境下的半导体加工或电路板制造。 光刻胶的显示面板领域。苏州高温光刻胶多少钱

吉田半导体的自研产品已深度融入国内半导体产业链：

• 芯片制造：YK-300 光刻胶服务中芯国际、长江存储，支持国产 14nm 芯片量产。
• 显示面板：YK-200 LCD 光刻胶市占率达 15%，成为京东方、华星光电战略合作伙伴。
• 新能源领域：无卤无铅焊片通过 UL 认证，批量应用于宁德时代储能系统，年供货量超 500 吨。

• 研发投入：年研发费用占比超 15%，承担国家 02 专项课题，获 “国家技术发明二等奖”。
• 产能规模：光刻胶年产能 5000 吨，纳米压印光刻胶占全球市场份额 15%。
• 质量体系：通过 ISO9001、IATF 16949 等认证，生产过程执行 8S 管理，批次稳定性达 99.5%。

产业链配套：原材料与设备协同发展。苏州高温光刻胶多少钱

正性光刻胶

• 半导体分立器件制造：对于二极管、三极管等半导体分立器件，正性光刻胶可实现精细的图形化加工，满足不同功能需求。比如在制作高精度的小尺寸分立器件时，正性光刻胶凭借其高分辨率和良好对比度，能精确刻画器件的结构，提高器件性能。
• 微机电系统（MEMS）制造：MEMS 器件如加速度计、陀螺仪等，结构复杂且尺寸微小。正性光刻胶用于 MEMS 制造过程中的光刻步骤，可在硅片等材料上制作出高精度的微结构，确保 MEMS 器件的功能实现。

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