涂胶显影机是一种用于印刷电路板(PCB)制造过程中的设备,主要用于涂覆光敏胶(光刻胶)和显影处理。这种设备在PCB生产中起着关键作用,确保电路图案的精确转移和显现。涂胶显影机的主要功能:涂胶:将光敏胶均匀涂覆在PCB基板上,确保胶层的厚度和均匀性,以便后续的曝光和显影过程。显影:通过化学处理去除未曝...
例如:东芝163数码复合机,感光鼓表面被充上-440V的负电荷,当有图像区域被曝光后,白色背景区未被曝光而保留-440V的负电荷,灰**域虽被曝光但因光照不强,而保留-300V左右的负电荷,黑**域被完全曝光,电荷消失,页只保留很少的负电荷。而加在显影辊上的显影偏压是-340V,这样,白色背景区域的电势高于显影偏压而碳粉未被转移;灰**域低于显影偏压40V而有少量碳粉转移;黑**域的电势与显影偏压之间相差较大,所以有更多的碳粉被转移到感光鼓上。这就完成了显影过程了。 [2]模块化设计:单元采用模块化设计,组合方式灵活多变,便于客制化生产。惠山区定制涂胶显影机按需定制
5、冲版水量和水压冲版水量和水压调整要保证正反面水洗充分6、烘干温度烘干温度一般控制在50--70 ℃之间,要视干燥情况和印刷效果而定。本文的烘干**是干燥了,绝非烤版。保证显影液循环、胶液循环、水循环顺畅,无堵塞;2、定期更换显影液,同时清洗显影机(建议每天清洗一次);3、定期更换过滤芯,一般每周更换一次(建议使用100u滤芯);4、定期更换保护胶并清洗保护胶系统(建议每天一次);5、每天擦洗胶辊(可能干净的软布沾显影液擦冼);6、定期彻底清洗胶辊,保证各胶辊之间压力均匀(每周一次);7、定期清洗加热段导轨(每周一次);8、整机清洁,表面不残留显影液或其它化学制剂江苏品牌涂胶显影机销售电话传动系统是引导印版运行的驱动装置。
根据不同影片,例如黑白底片﹑黑白正片﹑彩色底片﹑彩色正片﹑反转翻底片等等的加工工艺要求,设置洗片机的药液槽及药液循环系统。药液槽用不锈钢﹑工程塑料或硬橡皮制成,槽中有片架,胶片成螺旋形片环穿于片架上并浸没在药液里。各工序根据不同的时间要求,设置容片量不同的单槽,或者容量相同而数量不同的槽子,按工序,例如前浴﹑彩色显影﹑***定影﹑漂白﹑二次定影﹑稳定浴等顺序排列组合。以显影槽中容片量为L,显影时间为T,则洗片机生产率或机速P=L/T。各化学工序之间设有水洗槽,冲洗影片上前道工序的残液。
冲洗系统冲洗系统主要是由两组喷淋管向版面正反面喷淋清水,以除去附着在版面上的显影生成物和多余的显影液,并通过挤压辊挤去版面上的水分;同时具备二次水洗功能。涂胶系统涂胶系统主要功能是在显影后的版面上涂上一层均匀的保护胶。干燥系统干燥系统由送风管和胶辊组成,通过吹风和加热使印版迅速干燥,***将印版送出。显影液配置显影液配置需参考显影液说明书和印版说明书,一般推荐使用印版厂家配送的显影药液,配置出的显影液必须保证不同厚度版材的显影宽容度。干燥系统由送风管和胶辊组成,通过吹风和加热使印版迅速干燥,将印版送出。
显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中,让影像显现的一个过程。显影包括正显影和反转显影。正显影中显影色粉所带电荷的极性,与感光鼓表面静电潜像的电荷极性是相反的,反转显影中感光鼓与色粉电荷极性是相同的。在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。显影包括正显影和反转显影。正显影时,显影色粉所带电荷的极性,与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时,在感光鼓表面静电潜像是场力的作用下,色粉被吸附在感光鼓上。静电潜像电位越高的部分,吸附色粉的能力越强;静电潜像电位越低的部分,吸附色粉的能力越弱。对应静电潜像电位(电荷的多少)的不同,其吸附色粉量也就不同。多用在模拟复印机中。保证显影液循环、胶液循环、水循环顺畅,无堵塞;苏州品牌涂胶显影机供应商
压力尽可能小,压力大版材难通过,实地和小网点容易损失。惠山区定制涂胶显影机按需定制
匀胶显影机是完成除曝光以外的所有光刻工艺的设备,包括光刻材料的涂布、烘烤、显影、晶圆背面的清洗以及用于浸没式工艺的晶圆表面的去离子水冲洗等。匀胶显影机一般由四部分组成。***部分是晶圆盒工作站(wafer cassette station),晶圆盒在这里装载到机器上。机械手(robot arm)从晶圆盒中把晶圆抽出来,传送到工艺处理部分(process block),即第二部分。工艺处理部分是匀胶显影机的主体,增粘模块(adhesion enhancement)、热盘(hot plate)、冷盘(chill plate)、旋涂、显影等主要工艺单元都安装在这里,一个或两个机械手在各单元之间传递晶圆。第三部分是为浸没式光刻工艺配套的单元,包括晶圆表面水冲洗单元、背清洗单元等。第四部分是和光刻机联机的接口界面(interface),包括暂时储存晶圆的缓冲盒(buffer)、晶圆边缘曝光(wafer edge exposure,WEE)和光刻机交换晶圆的接口等。 [1]惠山区定制涂胶显影机按需定制
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