山东制版光刻胶耗材

吉田半导体的自研产品已深度融入国内半导体产业链：

• 芯片制造：YK-300 光刻胶服务中芯国际、长江存储，支持国产 14nm 芯片量产。
• 显示面板：YK-200 LCD 光刻胶市占率达 15%，成为京东方、华星光电战略合作伙伴。
• 新能源领域：无卤无铅焊片通过 UL 认证，批量应用于宁德时代储能系统，年供货量超 500 吨。

• 研发投入：年研发费用占比超 15%，承担国家 02 专项课题，获 “国家技术发明二等奖”。
• 产能规模：光刻胶年产能 5000 吨，纳米压印光刻胶占全球市场份额 15%。
• 质量体系：通过 ISO9001、IATF 16949 等认证，生产过程执行 8S 管理，批次稳定性达 99.5%。

吉田半导体助力区域经济，构建半导体材料生态圈，发挥企业作用，吉田半导体联合上下游资源，推动东莞松山湖半导体产业协同创新。
作为松山湖产业集群重要成员，吉田半导体联合光刻机制造商、光电子企业共建材料生态圈。公司通过技术输出与资源共享，帮助本地企业提升工艺水平，促进产业链协同创新。例如，与华中科技大学合作研发的 T150A KrF 光刻胶，极限分辨率 120nm，工艺宽容度优于日本信越同类产品，已实现量产并出口东南亚，为区域经济发展注入新动能。杭州高温光刻胶政策支持：500亿加码产业链。

光刻胶系列：

厚板光刻胶 JT - 3001，具备优异分辨率、感光度和抗深蚀刻性能，符合欧盟 ROHS 标准，保质期 1 年；

水油光刻胶 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 负性光刻胶，分辨率优异，对比度良好，曝光灵敏度高，光源适应，重量 100g；

液晶平板显示器负性光刻胶 JT - 1000，有 1L 装和 100g 装两种规格，分辨率高，准确性和稳定性好；

JT - 2000 UV 纳米压印光刻胶，耐强酸强碱，耐高温达 250°C，长期可靠性高，粘接强度高，重量 100g；

LCD 正性光刻胶 YK - 200，具有较大曝光、高分辨率、良好涂布和附着力，重量 100g；

半导体正性光刻胶 YK - 300，具备耐热耐酸、耐溶剂性、绝缘阻抗和紧密性，重量 100g；

耐腐蚀负性光刻胶 JT - NF100，重量 1L。

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，主要涵盖厚板、负性、正性、纳米压印及光刻胶等类别，以满足不同领域的需求。

UV 纳米压印光刻胶：JT-2000 型号，耐强酸强碱，耐高温达 250°C，长期可靠性高，粘接强度高，重量 100g。适用于需要在特殊化学和高温环境下进行纳米压印光刻的工艺，如半导体器件制造。

其他光刻胶

• 水油光刻胶 JT-2001：属于水油两用光刻胶，具有工厂研发、可定制、使用、品质保障、性能稳定的特点，重量 1L。
• 水油光刻胶 SR-3308：同样为水油两用光刻胶，重量 5L，具备上述通用优势，应用场景。

厚板光刻胶 JT-3001，抗深蚀刻，PCB 电路板制造Preferred！

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