本实用涉及蚀刻设备技术领域,具体为一种ito蚀刻液制备装置。背景技术:蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,蚀刻技术分为湿蚀刻和干蚀刻,其中,湿蚀刻是采用化学试剂,经由化学反应达到蚀刻的目的,薄膜场效应晶体管液晶显示器(tft~lcd)、发光二极管(led)、有机发光二极管(oled)等行业用作面板过程中铟锡氧化物半导体透明导电膜(ito)的蚀刻通常采用盐酸和硝酸的混合水溶液。现有的制备装置在进行制备时会发***热反应,使得装置外壳稳定较高,工作人员直接接触有烫伤风险,热水与盐酸接触会产生较为剧烈的反应,溅出容易伤害工作人员,保护性不足,盐酸硝酸具有较强的腐蚀性,常规的搅拌装置容易被腐蚀,影响蚀刻液的质量,用防腐蚀的聚四氟乙烯搅拌浆进行搅拌,成本过高,且混合的效果不好。所以,如何设计一种ito蚀刻液制备装置,成为当前要解决的问题。技术实现要素:本实用新型的目的在于提供一种ito蚀刻液制备装置,以解决上述背景技术中提出的ito蚀刻液制备装置保护性不足、不具备很好的防腐蚀性和混合的效果不好的问题。为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种ito蚀刻液制备装置,包括制备装置主体、高效搅拌装置和过滤除杂装置。苏州性价比较好的蚀刻液的公司联系电话。无锡格林达蚀刻液联系方式
本实用新型涉及一种铝蚀刻液生产设备。背景技术:铝蚀刻液生产设备主要包括混合罐、过滤器和储存罐,将蚀刻液中的各组份在混合罐混合均匀,由过滤器滤去杂质后投入储存罐中暂存,然后分装销售。以往,铝蚀刻液的分装由人工操作,随着自动化技术的兴起,全自动灌装线在铝蚀刻液生产企业得到广泛应用,但是,我司的铝蚀刻液生产车间面积较小,无法放置自动灌装线,所以需要对现有的生产设备进行改造,以实现铝蚀刻液的全自动灌装。技术实现要素:本实用新型提出了一种铝蚀刻液生产设备,以解决上述背景技术中提出的问题。为达前述目的,本实用新型提供的技术方案如下:铝蚀刻液生产设备,包括混合罐、过滤器、数个储存罐、数辆液压升降式拖车和地磅,所述混合罐通过液管与所述过滤器连接,所述过滤器的出液口处安装有气动升降式出液管,每个所述储存罐固定在对应的拖车顶部,所述储存罐的进液口和出液口处安装有单向液动阀,所述地磅位于所述过滤器的下方,所述地磅的顶部设置有将所述拖车固定的气动夹紧机构。在本技术方案中,载有空储存罐的拖车置于地磅上方,过滤器的出液管自动下行插入储存罐的进液口中,当地磅所测得的重量达到系统预设重量时。无锡格林达蚀刻液联系方式好的蚀刻液的标准是什么。
图7:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构运作局部放大图。图8:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图9:本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的宣泄孔的表面张力局部放大图。图10:本实用新型蚀刻设备其二较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图11:本实用新型蚀刻设备其三较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图。图12:本实用新型挡液板结构其二较佳实施例的宣泄孔的表面张力局部放大图。图13:本实用新型蚀刻方法的步骤流程图。图号说明:传统挡液板结构a挡液板结构b风刀c气体本实用新型1蚀刻设备10挡液板结构11***挡板12第二挡板121宣泄孔1211***壁面1212第二壁面122下表面123上表面13第三挡板20基板30输送装置31滚轮40风刀装置41***风刀42第二风刀43气体50喷洒装置51药液s1步骤一s2步骤二s3步骤三s4步骤四h长度θ夹角θ1***夹角θ2第二夹角θ3第三夹角θ4接触角a0孔径a1上孔径a2下孔径w、w1、w2距离。具体实施方式首先,请参阅图2与图3所示,为本实用新型挡液板结构其一较佳实施例的整体结构示意图,以及宣泄孔排列示意图,其中本实用新型的挡液板结构10适用于一湿式蚀刻机(图式未标示)。
近年来,oled显示器广泛应用于手机和平板显示。金属银以优异的电导率和载流子迁移率被广泛应用于oled显示器的阳极布线(ito/ag/ito)结构中。为了对此进行蚀刻,目前主要使用基于磷酸、硝酸、醋酸和硝酸盐的湿蚀刻液(cna)。这样的体系虽然能有效去除金属银,但在实际使用过程中仍会存在少量的银残留或银再吸附沉积问题。4.本发明所要解决的技术问题在于如何解决现有的银蚀刻液在使用过程中存在少量的银残留、银再吸附沉积问题。5.本发明通过以下技术手段实现解决上述技术问题的:6.一种银蚀刻液组合物,其成分由质量占比为40-60%磷酸、2-10%硝酸、%有机酸、%硝酸盐、%含氮元素有机物、其余为水组成。 天马微电子用的哪家的蚀刻液?
以带动该基板20由该喷洒装置50下端部朝向该风刀装置40的该***风刀41下端部的方向移动。该风刀装置40设置于该挡液板结构10的一端部,该风刀装置40包括有一设置于该基板20上方的***风刀41,以及一设置于该基板20下方的第二风刀42,其中该***风刀41与该第二风刀42分别吹出一气体43至该基板20,以将该基板20上的一药液51带往与相反于该基板20的行进方向,以使该基板20上该药液51减少,其中该气体43远离该***风刀41与该第二风刀42的方向分别与该基板20的法线方向夹设有一第三夹角θ3,且该第三夹角θ3介于20度至35度之间。此外,请一并参阅图8与图9所示,为本实用新型蚀刻设备其一较佳实施例的挡液板结构结合风刀装置示意图,以及宣泄孔的表面张力局部放大图,其中该宣泄孔121为直通孔的态样,当该风刀装置40的***风刀41与该第二风刀42为了减少该基板(本图式未标示)上所残留的药液51而吹出该气体43时,该气体43碰到该挡液板结构10后部分会往该复数个宣泄孔121流动,并朝向该第二挡板12的该上表面123宣泄而出(如图8所示),除了保有原有挡液板的防止该药液51喷溅而造成的蚀刻不均现象,亦可达到以破真空的原理避免该气体43在该基板20附近形成涡流而造成真空吸引问题;此外。苏州性价比高的蚀刻液。无锡格林达蚀刻液联系方式
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蚀刻液也可含有α-羟基羧酸和/或其盐。α-羟基羧酸及其盐具有作为钛的络合剂的效果,可抑制蚀刻液中产生钛的沉淀。作为所述α-羟基羧酸,例如可举出酒石酸、苹果酸、柠檬酸、乳酸及甘油酸等。α-羟基羧酸和/或其盐的浓度并无特别限制,从络合效果及溶解性的观点来看,推荐为%至5重量%,更推荐为%至2重量%。另外,蚀刻液也可含有亚硫酸及/或其盐。亚硫酸及其盐具有作为还原剂的效果,可提高钛的蚀刻速度。亚硫酸和/或其盐的浓度并无特别限制,从还原性及臭气的观点来看,推荐为%至%,更推荐为%至%。蚀刻液中除了上述的成分以外,也能以不妨碍本发明效果的程度添加其他成分。作为其他成分,例如可举出表面活性剂、成分稳定剂及消泡剂等。蚀刻液可通过使所述各成分溶解于水中而容易地制备。作为所述水,推荐为将离子性物质及杂质除去的水,例如推荐为离子交换水、纯水、超纯水等。蚀刻液可在使用时将各成分以成为预定浓度的方式调配,也可预先制备浓缩液并在即将使用之前稀释而使用。使用本发明的蚀刻液的钛的蚀刻方法并无特别限制,例如可举出:对含有铜及钛的对象物涂布或喷雾蚀刻液的方法;将含有铜及钛的对象物浸渍在蚀刻液中的方法等。处理温度并无特别限制。无锡格林达蚀刻液联系方式
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