半导体的分类，按照其制造技术可以分为：集成电路器件，分立器件、光电半导体、逻辑IC、模拟IC、储存器等大类，一般来说这些还会被分成小类。此外还有以应用领域、设计方法等进行分类，虽然不常用，但还是按照IC、LSI、VLSI（超大LSI）及其规模进行分类的方法。此外，还有按照其所处理的信号，可以分成模拟、数字、模拟数字混成及功能进行分类的方法。
电阻率介于金属和绝缘体之间并有负的电阻温度系数的物质。半导体室温时电阻率约在10E-5～10E7欧·米之间，温度升高时电阻率指数则减小。半导体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。 无锡微原电子科技，半导体器件行业的创新先锋，开创美好未来！松江区本地半导体器件
半导体五大特性∶电阻率特性，导电特性，光电特性，负的电阻率温度特性，整流特性。在形成晶体结构的半导体中，人为地掺入特定的杂质元素，导电性能具有可控性。在光照和热辐射条件下，其导电性有明显的变化。晶格：晶体中的原子在空间形成排列整齐的点阵，称为晶格。共价键结构：相邻的两个原子的一对**外层电子（即价电子）不但各自围绕自身所属的原子核运动，而且出现在相邻原子所属的轨道上，成为共用电子，构成共价键。自由电子的形成：在常温下，少数的价电子由于热运动获得足够的能量，挣脱共价键的束缚变成为自由电子。空穴：价电子挣脱共价键的束缚变成为自由电子而留下一个空位置称空穴。电子电流：在外加电场的作用下，自由电子产生定向移动，形成电子电流。空穴电流：价电子按一定的方向依次填补空穴（即空穴也产生定向移动），形成空穴电流。松江区本地半导体器件在半导体器件的竞技场上，无锡微原电子科技凭借实力脱颖而出！
以GaN（氮化镓）为**的第三代半导体材料及器件的开发是新兴半导体产业的**和基础，其研究开发呈现出日新月异的发展势态。GaN基光电器件中，蓝色发光二极管LED率先实现商品化生产成功开发蓝光LED和LD之后，科研方向转移到GaN紫外光探测器上GaN材料在微波功率方面也有相当大的应用市场。氮化镓半导体开关被誉为半导体芯片设计上一个新的里程碑。美国佛罗里达大学的科学家已经开发出一种可用于制造新型电子开关的重要器件，这种电子开关可以提供平稳、无间断电源。
半导体器件材料和性能？
大多数半导体使用单晶硅，但使用的其他材料包括锗、砷化镓(GaAs)、砷化镓、氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)。半导体材料的导电率是由晶体结构中引起自由电子过剩和缺乏的杂质决定的，一般是通过多数载流子（N型半导体中的电子，P型半导体中的空穴）来负责的，但是，各种半导体，例如晶体管为了在器件中工作，需要少数载流子（N型半导体中的空穴和P型半导体中的电子）。半导体的整流效应（*在一个方向上通过电流的特性）**初是在方铅矿晶体中发现的。早期的无线电接收器（矿石无线电）是在方铅矿晶体的表面上发现的，上面涂有称为“猫须”的铅存储工具。据说，使用了称为“”的细金属线的轻微接触。 无锡微原电子科技，半导体器件行业的佼佼者，品质值得信赖！
设备按照终端数量可以分为二端设备、三端设备和多端设备。目前***使用的固态器件包括晶体管、场效应晶体管(FET)、晶闸管(SCR)、二极管（整流器）和发光二极管(LED)。半导体器件可以用作单独的组件，也可以用作集成多个器件的集成电路，这些器件可以在单个基板上以相同的制造工艺制造。
三端设备：
晶体管结型晶体管达林顿晶体管场效应晶体管 (FET)绝缘栅双极晶体管 (IGBT)单结晶体管光电晶体管静态感应晶体管（SI 晶体管）晶闸管（SCR）门极可关断晶闸管（GTO）双向可控硅开关集成门极换流晶闸管 (IGCT)光触发晶闸管（LTT）静态感应晶闸管（SI晶闸管）。
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场效应晶体管场效应晶体管依靠一块薄层半导体受横向电场影响而改变其电阻（简称场效应），使具有放大信号的功能。这薄层半导体的两端接两个电极称为源和漏。
控制横向电场的电极称为栅。根据栅的结构,场效应晶体管可以分为三种：
①结型场效应管(用PN结构成栅极)；
②MOS场效应管（用金属-氧化物－半导体构成栅极,见金属－绝缘体－半导体系统）；
③MES场效应管（用金属与半导体接触构成栅极）;其中MOS场效应管使用*****。尤其在大规模集成电路的发展中,MOS大规模集成电路具有特殊的优越性。MES场效应管一般用在GaAs微波晶体管上。在MOS器件的基础上,又发展出一种电荷耦合器件 (CCD)，它是以半导体表面附近存储的电荷作为信息，控制表面附近的势阱使电荷在表面附近向某一方向转移。这种器件通常可以用作延迟线和存储器 等；配上光电二极管列阵，可用作摄像管。 松江区本地半导体器件
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