宁波工业烤箱图片

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石墨盘烤盘炉一.产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。二、设计特点1、后门设计热风电机2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的三、技术指标1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；4、加热元件：石墨加热棒；5、冷却方式：气冷+循环风冷降温；6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；8、气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；9、极限真空:10-3torr级；10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr11、升温功率：170kW；12、升温速率：15℃/min（空载）；13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高）对于玻璃制品的退火处理，工业烤箱是不可或缺的设备。

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中温气氛箱式炉主要用于磷酸铁锂正极材料等类似产品的高温烧结、热处理。一、热工系统1.额定温度800℃2.较高温度850℃3.加热元件陶瓷外丝加热管4.加热功率18kw5.空炉保温功率约9kw6.温区个数1个7.控温点数2点8.热偶K分度9.控温稳定度1℃(恒温平台)10.炉膛温度均匀度6℃（恒温800℃,1h）二、气氛系统1.炉膛气氛2路氮气，流量计量程为2～20L/min；每路流量可调节2.排气系统在炉膛顶部设置一个排气*囱，用于废气排放，废气3.经过水封清洗后进入大气中，减少对环境污染4.氧含量配氧含量分析仪分析氧含量：5.高温状态氧含量≤10ppm+气源氧含量6.低温状态氧含量≤50ppm+气源氧含量三、冷却系统1.冷却结构无2.产品降温随炉降温3.安全保护4.报警指示超温、断偶、停水、停气等声光报警保护5.设备安全升温速率≤5℃/min四、温度控制系统1.温度测量采用K分度热偶测量2.控制仪表采用进口智能调节仪控制。具有PID参数自整定、高温3.上限报警、热电偶失效指示等多项报警保护功能4.控制方式固态继电器过零控制5.超温处理⑴.当测量温度超过设定的安全值时，断加热，并报警。⑵.当测量温度超过目标温度达到安全偏差值时，报警。宁波工业烤箱图片