手动电镀设备周边设备

电镀滚镀机与电镀生产线的关系对比：滚镀机 vs 其他电镀设备（在生产线中的差异）

 对比项                    滚镀机                                          挂镀设备                               连续镀设备（如钢带镀）  适用工件                 小尺寸、大批量                   中大尺寸、精密件                   连续带状或线状工件铜线）     镀层均匀性           良好（动态翻滚减少屏蔽）     优（单件悬挂，无遮挡  ）    高（匀速传动，电解液稳定）      产能                     极高（单次处理数千件）        中（单件或小批量）           超高（连续生产，24 小时不停机）人工干预                低（滚筒自动上下料）          高（需人工挂卸工件）          低（全自动收放卷）                  在生产线中的角色   小件批量处理设备        大件 / 精密件处理设备        连续材料处理设备    镀铬设备需配置铅合金阳极与阳极袋，防止杂质污染电解液，确保硬铬镀层的高硬度与耐磨性。手动电镀设备周边设备

全自动磷化线工作流程

1.前处理：晶圆清洗、去氧化层、活化表面。

2.装载：将晶圆固定于旋转载具，浸入镀液。

3.电镀：

施加电流，金属离子在晶圆表面还原沉积。

旋转载具确保镀液流动均匀，消除厚度差异。

4.后处理：镀层退火、清洗、干燥。

技术特点

1.高均匀性：

旋转+喷淋设计减少“边缘增厚”现象，镀层均匀性达±5%以内。

2.精密控制：电流密度精度：±1 mA/cm²；温度波动：±0.5℃。

3.洁净度保障：设备内建HEPA过滤系统，满足Class 1000以下洁净环境。

4.高效生产：支持多片晶圆同时处理（如6片/批次），UPH（每小时产量）可达50~100片。

应用场景

1.先进封装：2.5D/3D IC的TSV镀铜、Fan-Out封装中的RDL金属化。

2.功率器件：IGBT、MOSFET背面金属化（镀银、镀镍）。

3.传感器与MEMS：微结构表面镀金，提升电气性能与可靠性。 湖北电镀设备自动化电镀线的机器人上下料系统，通过视觉识别定位工件，实现高精度无人化操作。

半导体挂镀设备

1.基本原理与结构

挂镀工艺：晶圆固定在挂具上，浸入电镀液，通过精细控制电流、电压及溶液成分，在表面沉积均匀金属层。

组件：

电镀槽：耐腐蚀材质，配备温控、循环过滤系统，维持镀液均匀性

挂具与阳极：钛或铂金阳极，挂具设计适配晶圆尺寸，确保电场分布均匀

自动化传输：机械臂自动上下料，减少人工污染风险

控制系统：PLC/计算机实时调控电流密度、电镀时间、pH值等参数

2. 关键技术优势

高均匀性：通过脉冲电镀或水平电镀技术（如ECP），减少边缘效应，实现亚微米级镀层均匀性

低缺陷率：镀液杂质控制（＜0.1ppm）与膜厚在线监测，降低孔洞、结节等缺陷

高产能：支持多晶圆并行处理

3. 典型应用场景

芯片制造：

铜互连：在逻辑芯片中沉积多层铜导线，替代传统铝工艺以降低电阻

TSV填充：为3D封装提供垂直导电通道，实现芯片堆叠

先进封装：

凸块电镀：在晶圆表面形成锡、铜柱凸块，用于Flip-Chip键合

RDL（重布线层）：沉积铜层实现芯片I/O端口的重新布局

总结

半导体挂镀设备通过精密电化学控制与自动化技术，解决了纳米级金属沉积的均匀性与可靠性难题，是先进芯片制造与封装的装备。其性能直接关联芯片的导电性、散热及良率

三筒式电阻电容全自动滚镀设备

是为电阻、电容等微型电子元件设计的自动化电镀装置，通过三滚筒协同作业与全流程智能控制，实现高效、高精度镀层加工。要点：

1.结构与原理

三滚筒系统：

三个滚筒可同步处理不同工艺或元件（如电阻镀锡、电容镀银），或联动提升产能。滚筒采用PP/PVC等耐腐蚀材质，内部防碰撞分区设计，减少微小元件（如贴片电阻0201）的损伤风险

全自动控制：

集成PLC/工业电脑系统，自动完成上料、电镀、清洗、烘干流程。通过传感器实时监控镀液温度、pH值及电流密度，动态调节参数

电镀优化：

多级过滤与温控装置确保镀液稳定性；多点阴极导电技术适配电阻引脚、电容电极的复杂接触需求

2.优势

高效灵活：三滚筒并行作业，产能较单筒提升50%以上，可同时处理多规格元件或多镀种

镀层高一致性：滚筒匀速旋转结合智能调控，确保微小元件表面镀层均匀

低损耗率：防摩擦结构+精细转速控制，元件破损率低于0.1%

3. 应用与要点

典型场景：

电阻类：金属膜电阻端头镀锡、高精度电阻镀金

电容类：铝电解电容电极镀铜、MLCC电容镀镍抗氧化

关键注意：

按元件尺寸匹配滚筒孔径，防止漏料

定期检测镀液金属离子浓度，避免杂质影响镀层导电性

维护自动传输系统，减少卡料风险。 环保型电镀设备的废气收集系统采用蜂窝状活性炭吸附塔，深度处理酸雾废气，确保排放达标。

志成达设计研发的滚挂一体电镀实验设备镀液的选择：

1.镀铜液方面

酸性镀铜液导电性强、分散性佳，能快速镀厚铜，常用于电子元件底层镀铜；

碱性镀铜液稳定性好，腐蚀性小，所得铜层结晶细、结合力强，适用于钢铁基体打底。

2.镀镍液

瓦特镍镀液成分简单、易维护，镀层光亮耐磨，在防护装饰性电镀中广泛应用；

氨基磺酸镍镀液分散与深镀能力优，镀层内应力低、延展性好，多用于对镀层质量要求高的电子、航天领域。

3.镀锌液里

碱性镀锌液阴极极化作用强，锌层耐腐蚀性好；

酸性镀锌液电流效率高、沉积快，外观光亮，不过腐蚀性强。

4.镀金液

有物镀金液，镀层均匀光亮、硬度高；

无氰镀金液则更环保。

5.镀银液

物镀银液电镀性能好，镀层导电导热优；

硫代硫酸盐镀银液毒性小、更环保。选择镀液要综合零件材质、形状、使用环境及实验目的等，兼顾成本与环保。

总结：

在选择镀液时，需要根据待镀零件的材质、形状、尺寸、使用环境以及实验目的等因素进行综合考虑，同时还需考虑镀液的成本、环保性和操作难度等因素。 脉冲电化学抛光设备结合电镀与抛光功能，通过瞬间高电流溶解凸起部分，实现镜面级镀层表面。滚镀电镀设备厂家直销

无氰镀锌设备使用锌酸盐络合剂替代。手动电镀设备周边设备

深圳志成达设计的自动加药机设备，如何在电镀厂使用？

按电镀工艺药剂添加

分化学镍自动加药设备：通过先进传感器和控制系统，实时监测化学镍溶液浓度、pH值、温度等参数，依预设工艺要求自动调整添加剂加入量，保障溶液稳定性，提高电镀产品一致性与质量。还具备高效节能特点，减少化学品浪费与环境污染，同时减轻工人劳动强度。

电镀药水全自动添加系统：如秒准MAZ-XR300A18，基于莫塞莱定律和比尔-朗伯定律，利用软X射线和可见光谱对电镀液中金属离子（如Ni²⁺、Sn²⁺等）和非金属组分（如磷酸、氢氧化钠等添加剂）进行定性、定量分析。具备自清洗功能，支持多通道采样，可全组分在线分析，适用于高温强腐蚀性环境，安全性高。

按功能用途分

pH自动加药机：用于维持电镀液pH值稳定。电镀过程中，pH值变化会影响镀层质量，该设备通过pH传感器实时监测，当pH值偏离设定范围，自动控制加酸或加碱泵添加相应药剂，使pH值保持在合适区间。

光亮剂自动加药机：光亮剂能提升电镀层光亮程度和表面质量。此设备依据电镀液中光亮剂浓度变化，自动添加光亮剂，保证镀层外观质量稳定，避免因光亮剂不足或过量导致镀层发暗、出现条纹等问题。 手动电镀设备周边设备