光刻设备对温湿度的要求也极高，光源发出的光线需经过一系列复杂的光学系统聚焦到硅片表面特定区域，以实现对光刻胶的曝光，将设计好的电路图案印制上去。当环境温度出现极其微小的波动，哪怕只是零点几摄氏度的变化，光刻机内部的精密光学元件就会因热胀冷缩特性而产生细微的尺寸改变。这些光学元件包括镜片、反射镜等，它们的微小位移或形状变化，会使得光路发生偏差。原本校准、聚焦于硅片特定坐标的光线，就可能因为光路的改变而偏离预定的曝光位置，出现曝光位置的漂移。在生物制药研发中，该设备能准确调控环境，助力药物成分稳定，保障实验结果可靠。北京光学投影仪温湿度
在 3D 打印行业蓬勃发展的当下，温湿度成为左右打印质量的关键因素。在打印过程中，一旦环境温度出现较大幅度的波动，用于成型的光敏树脂或热熔性材料便会受到直接冲击。材料的固化速率、流动性不再稳定，这会直接反映在打印模型上，导致模型出现层纹，严重时发生变形，甚至产生开裂等严重缺陷。而当湿度偏高，材料极易吸湿。在打印过程中，这些吸收的水分转化为气泡，悄然隐匿于模型内部或浮现于表面，极大地破坏模型的结构完整性，使其表面质量大打折扣，影响 3D 打印产品在工业设计、医疗模型等诸多领域的实际应用。黑龙江温湿度存储柜磁屏蔽部分，可通过被动防磁和主动消磁器进行磁场控制。
激光干涉仪以其纳米级别的测量精度，在半导体制造、精密机械加工等领域发挥着关键作用。然而，它对环境变化极为敏感，温度、湿度的微小波动以及空气洁净度的差异，都可能干扰激光的传播路径与干涉效果，致使测量结果出现偏差。精密环控柜的超高精度温度控制，能将温度波动控制在极小区间，如关键区域 ±2mK（静态），同时确保湿度稳定性可达 ±0.5%@8h，并且实现百级以上洁净度控制，为激光干涉仪提供稳定、洁净的测量环境，保障其测量精度不受外界因素干扰。光谱分析仪用于分析物质的光谱特性，广泛应用于半导体材料检测、化学分析等领域。在工作时，外界环境的不稳定可能导致仪器内部光学元件的性能变化，影响光谱的采集与分析精度。精密环控柜通过调控温湿度，避免因温度变化使光学元件热胀冷缩产生变形，以及因湿度异常造成的镜片霉变、光路散射等问题。其稳定的环境控制能力，保证光谱分析仪能够准确、可靠地分析物质光谱，为科研与生产提供数据支持。
在电子设备的显示屏制造过程中，温湿度的稳定控制也不可或缺。显示屏的液晶材料对温度变化非常敏感，温度波动可能导致液晶分子排列紊乱，影响显示屏的显示效果，出现色彩不均、亮度不一致等问题。湿度方面，过高的湿度可能使显示屏内部的电子元件受潮，引发短路故障；过低的湿度则容易产生静电，吸附灰尘，影响显示屏的洁净度。精密环控柜通过精确调节温湿度，为显示屏制造提供了理想的环境条件，确保生产出高质量、高性能的显示屏，满足消费者对电子设备显示效果的高要求。拥有超高水准洁净度控制能力，可达百级以上洁净标准。
精密环控柜主要由设备主柜体、控制系统、气流循环系统、洁净过滤器、制冷(热)系统、照明系统、局部气浴等组成，为光刻机、激光干涉仪等精密测量、精密制造设备提供超高精度温湿度、洁净度的工作环境。该设备内部通过风机引导气流以一定的方向循环，控制系统对循环气流的每个环节进行处理，从而使柜内的温湿度达到超高的控制精度。该系统可实现洁净度百级、十级、一级，温度波动值±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.002℃等精密环境控制。自面世以来，已为相关领域客户提供了稳定的实验室环境以及监测服务，获得了众多好评。根据高精密行业用户的反馈，对产品进行持续优化，不断提升设备的适用性和稳定性。河北高精密温湿度
设备内部通过风机引导气流循环，控制系统对循环气流每个环节进行处理，使柜内温湿度达到超高控制精度。北京光学投影仪温湿度
电子万能试验机，作为材料力学性能测试设备，在金属材料研发、塑料制品质量检测等众多领域广泛应用。它能够开展材料拉伸、压缩、弯曲等力学性能测试，为产品质量把控与材料特性研究提供关键数据支撑。然而，环境温湿度的波动对其影响极大。温度波动时，试验机力传感器的精度首先受到冲击，测量的力值出现偏差，同时还会改变材料自身的力学性能，例如金属在高温下屈服强度降低，导致测试结果无法真实反映材料特性。湿度波动时，试验机的夹具、传动部件极易生锈腐蚀，致使对试样的夹持稳定性大打折扣，加载均匀性也难以保证，进一步降低测试精度。北京光学投影仪温湿度
