光学材料生产用超纯水设备水质手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对超纯水水质要求高,带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。三、光学材料生产用超纯水设备技术光电光学玻璃行业的超纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供超纯水,镀膜玻璃镜片清洗超纯水设备设计上,采用...
交换反应在模组的纯化学室进行,在那里阴离子交换树脂用它们的氢氧根据离子(OH)来交换溶解盐中的阴离了(如氯离子Cl)。相应地,阳离子交换树脂用它们的氢离子(H)来交换溶解盐中的阳离子(如Na)。在位于模组两端的阳极(+)和阴极(-)之间加一直流电场。电势就使交换到树脂上的离子沿着树脂粒的表面迁移并通过膜进入浓水室。阳极吸引负电离子(如OH,CI)这些离子通过阴离子膜进入相临的浓水流却被阳离子选择膜阻隔,从而留在浓水流中。阴极吸引纯水流中的阳离子(如H,Na)。这些离子穿过阳离子选择膜超纯水设备可以提供低总铁的水源。宁波超声波清洗用超纯水难点在哪里
纯水设备,它采用的是主要是反渗透膜技术。它的工作原理是对水施加一定的压力,使水分子和离子态的矿物质元素通过反渗透膜,而溶解在水中的绝大部分无机盐(包括重金属)、有机物以及细菌、病毒等无法透过反渗透膜,从而使渗透过的纯净水和无法渗透过的浓缩水严格的分开;反渗透膜上的孔径只有0.0001微米,而病毒的直径一般有0.02-0.4微米,普通细菌的直径有0.4-1微米。一、用途不同(一)超纯水设备的用途:1、超纯材料和超纯试剂的生产和清洗。2、电子产品的生产和清洗。3、电池产品的生产。4、半导体产品的生产和清洗。宁波超声波清洗用超纯水难点在哪里超纯水设备是采用预处理、反渗透技术、超纯化处理以及后级处理等方法。
原水:可用自来水或普通蒸馏水或普通去离子水作原水。机械过滤:通过砂芯滤板和纤维柱滤除机械杂质,如铁锈和其他悬浮物等。活性炭过滤:活性炭是广谱吸附剂,可吸附气体成分,如水中的余氯等,吸附细菌和某些过渡金属等。氯气能损害反渗透膜,因此应力求除尽。反渗透膜过滤:可滤除95%以上的电解质和大分子化合物,包括胶体微粒和病毒等。由于绝大多数离子的去除,使离子交换柱的使用寿命延长。苏州道盛禾环保科技有限公司欢迎您的咨询!
◆半导体制造需要接近理论纯水的水理论上纯水在25°C下的电阻率为18.24MΩ·cm,电导率为0.05482μS/cm。该电导率的值为H20+OH-(公式为2H20=H3O+OH-)即,除了氢离子和氢氧根离子以外,没有任何电解质,这是因为水本身的解离。对超纯水的要求是,电阻率至少与理论纯水的电阻率非常接近。实际上,高集成度半导体制造工艺所要求的水质电阻率高达18MΩ·cm以上。例如,在水中溶解1mg/L的Fe离子,其电阻率就会下降到约17MΩ·cm,所以溶解物质的浓度在μgg/L(ppb)的超纯水中也会出现问题,随着半导体产业的发展,水质要求是越来越严格。半导体产业所要求的超纯水是100%的理论纯水,不含溶解在水中的离子类、有机物、活菌、微粒等。
第二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子设备再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。3、第三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,这是目前制取超纯水经济,环保用来制取超纯水的工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。●应用场合1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;2.超纯材料和超纯化学试剂;3.实验室和中试车间4.汽车、家电表面抛光处理;5.其他高科技精微产品超纯水设备采用先进的技术和过滤系统。宁波超声波清洗用超纯水难点在哪里
超纯水设备可以提供低总银的水供应。宁波超声波清洗用超纯水难点在哪里
紫外线消解:借助于短波(180nm-254nm)紫外线照射分解水中的不易被活性炭吸附的小有机化合物,如甲醇、乙醇等,使其转变成CO2和水,以降低TOC的指标。离子交换单元:已知混合离子交换床是除去水中离子的决定性手段。借助于多级混床获得超纯水也并不困难。但水的TOC指标主要来自树脂床。超纯水设备超纯水设备的处理步骤主要就是以上几种。同时你可以关注本网站这篇文章使用超纯水设备应该注意什么问题。帮助您规范使用超纯水设备,降低运行成本,有效提高企业经济效益宁波超声波清洗用超纯水难点在哪里
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