企业商机
低本底Alpha谱仪基本参数
  • 品牌
  • 泰瑞迅
  • 型号
  • RLA200
  • 适用范围
  • 适用于各种环境样品以及环境介质中人工放射性α核素的监测。
  • 加工定制
  • 外形尺寸
  • 361*470*180
  • 工作电压
  • 220
  • 测量范围
  • 0-10Mev
  • 电源
  • 220V
  • 重量
  • 15KG
  • 产地
  • 苏州
  • 厂家
  • 苏州泰瑞迅科技有限公司
低本底Alpha谱仪企业商机

低本底α谱仪,PIPS探测器,多尺寸适配与能谱分析‌探测器提供300/450/600/1200mm²四种有效面积选项,其中300mm²型号在探-源距等于直径时,对241Am(5.49MeV)的能量分辨率≤20keV,适用于核素精细识别‌。大尺寸探测器(如1200mm²)可提升低活度样本的信噪比,配合数字多道分析器(≥4096道)实现0~10MeV全能量覆盖‌。系统内置自动增益校准功能,通过内置参考源(如241Am)实时校正能量刻度,确保不同探测器间的数据一致性‌。通过探测放射性样品所产生的α射线能量和强度,从而获取样品的放射性成分和含量。苍南仪器低本底Alpha谱仪哪家好

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多参数符合测量与数据融合针对α粒子-γ符合测量需求,系统提供4通道同步采集能力,时间符合窗口可调(10ns-10μs),在²²⁴Ra衰变链研究中,通过α-γ(0.24MeV)符合测量将本底计数降低2个数量级‌。内置数字恒比定时(CFD)算法,在1V-5V动态范围内实现时间抖动<350ps RMS,确保α衰变寿命测量精度达±0.1ns‌。数据融合模块支持能谱-时间关联分析,可同步生成α粒子能谱、衰变链分支比及时间关联矩阵,在钚同位素丰度分析中实现²³⁹Pu/²⁴⁰Pu分辨率>98%‌。瑞安真空腔室低本底Alpha谱仪供应商与进口同类产品相比,该仪器的性价比体现在哪些方面?

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**功能与系统架构‌TRX Alpha软件基于模块化设计理念,支持数字/模拟多道系统的全流程控制,可同步管理1~8路**测量通道,适配半导体探测器(如PIPS型)与真空腔室联动的α谱仪硬件架构‌。软件通过实时数据采集接口(采样率≥100kHz)捕获α粒子电离信号,结合梯形滤波算法(成形时间0.5~8μs可调)优化信噪比,确保能量分辨率≤20keV(基于241Am标准源测试)‌。其内置的活度计算引擎集成***分析法和示踪法双模式,支持用户自定义核素半衰期库与分支比参数,通过蒙特卡罗模拟修正自吸收效应及几何因子误差,**终生成符合ISO 18589-7标准的活度浓度报告(含扩展不确定度分析)‌。系统兼容Windows/Linux平台,可通过网络接口实现跨设备联控,满足实验室与野外应急场景的灵活需求‌。

α粒子脉冲整形与噪声抑制集成1μs可编程数字滤波器,采用CR-(RC)^4脉冲成形算法,时间常数可在50ns-2μs间调节。针对α粒子特有的微秒级电流脉冲,设置0.8μs成形时间时,系统等效噪声电荷(ENC)降至8e⁻ RMS,使²²⁶Ra衰变链中4.6MeV(²²²Rn)与6.0MeV(²¹⁰Po)双峰的峰谷比从1.2:1优化至3.5:1‌。数字滤波模块支持噪声谱分析,自动识别50/60Hz工频干扰与RF噪声,在核设施巡检场景中,即使存在2Vpp级电磁干扰仍能维持5.48MeV峰位的道址偏移<±0.1%‌。死时间控制采用智能双缓冲架构,在10⁵cps高计数率下有效数据通过率>99.5%,特别适用于铀矿石样品中短寿命α核素的快速测量‌。TRX Alpha软件是泰瑞迅科技有限公司研发的专业α谱分析软件。

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PIPS探测器α谱仪的4K/8K道数模式选择需结合应用场景、测量精度、计数率及设备性能综合判断,其**差异体现于能量分辨率与数据处理效率的平衡。具体选择依据可归纳为以下技术要点:二、4K快速筛查模式的特点及应用‌高计数率适应性‌4K模式(4096道)在≥5000cps高计数率场景下,可通过降低单道数据量缩短死时间,减少脉冲堆积效应,保障实时能谱叠加对比的流畅性,适用于应急监测或工业在线分选‌。‌快速筛查场景‌在常规放射性污染筛查或教学实验中,4K模式可满足快速定性分析需求。例如,区分天然α发射体(²³⁸U系列)与人工核素时,其能量跨度较大(4-8MeV),无需亚keV级分辨率‌。‌操作效率优化‌该模式对硬件资源占用较少,可兼容低配置数据处理系统,同时支持多任务并行(如能谱保存与实时显示),适合移动式设备或长时间连续监测任务‌。探测效率 ≥25%(探-源距近处,@450mm2探测器,241Am)。泰顺谱分析软件低本底Alpha谱仪销售

与传统闪烁瓶法相比,α能谱法的优势是什么?苍南仪器低本底Alpha谱仪哪家好

PIPS探测器与Si半导体探测器的**差异分析‌一、工艺结构与材料特性‌PIPS探测器采用钝化离子注入平面硅工艺,通过光刻技术定义几何形状,所有结构边缘埋置于内部,无需环氧封边剂,***提升机械稳定性与抗环境干扰能力‌。其死层厚度≤50nm(传统Si探测器为100~300nm),通过离子注入形成超薄入射窗(≤50nm),有效减少α粒子在死层的能量损失‌。相较之下,传统Si半导体探测器(如金硅面垒型或扩散结型)依赖表面金属沉积或高温扩散工艺,死层厚度较大且边缘需环氧保护,易因湿度或温度变化引发性能劣化‌。‌苍南仪器低本底Alpha谱仪哪家好

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