等离子体技术大范围应用于芯片制造、新材料、环保产业、医学、农业、新能源等领域,是这些领域技术升级的重要方向。但是,国内外等离子体技术的研究及产业化力量处于极为分散状态,缺乏集中进行的主要技术产业化的孵化平台及机制。为此,由数位国家重点人才工程**,复旦大学、浙江大学、南京大学、东南大学、苏州大学、南京工业大学、常州大学、等科研团队及产业化平台,十余家相关产业配套企业共同组建“先进等离子体技术研究院”(法人单位:江苏先竞等离子体技术研究院有限公司)
CVD具有淀积温度低、薄膜成份易控、膜厚与淀积时间成正比、均匀性好、重复性好以及台阶覆盖性优良等特点。在实际应用中,LPCVD常用于生长单晶硅、多晶硅、氮化硅等材料,而APCVD则常用于生长氧化铝...