将胶浆(包括溶剂胶浆、胶乳和水胶浆)均匀地涂覆到织物表面上的工艺。涂胶方法有刮涂、辊涂、浸涂和喷涂四种。制造很薄的胶布(0.15mm以内),而又要求有较高耐透气性与耐水性时,适宜用涂胶法多次涂胶。若织物强度很小,经不起压延贴胶压力时,宜用涂胶法。织物先涂胶而后压延贴胶,可显著提高纤维与胶料的黏结力。...
显影剂是使卤素银还原出银的药物,**常用的是米吐尔和海多吉浓两种。但在水中极易氧化,在使用上应与其它药物作配合。米吐尔又名依仑,学名硫酸甲基对氨基苯酚。它是白色或微带灰色的针状或粉末结晶,在10℃时,每100毫升水中可溶解4.8克。它很难溶于亚硫酸水溶液中,它是一种显像力很强的软性显影剂。显像时出像很快,当显影液作用强时,它在显影液中2~3秒钟即可出像,它的主要特点就是能使影像暗部与强光部分同时出像,但是底片上的明暗或黑白差别的程度小,即反差小。配成显影液和亚硫酸共存时保存性能好,对溴化钾温度反应较小,它和海多吉浓在同程度上对比,不易污染底片。用手感觉水压,有力,保证水洗充分。苏州品牌涂胶显影机量大从优
3)磁穗刮板:磁穗刮板控制显影套筒(磁辊)输送的显影剂的量,这样显影剂磁穗将与感光鼓表面恰当接触。4)搅拌轮:显影剂混合时会产生墨粉和载体的摩擦。因为载体充上正电荷,而墨粉会充上负电荷,从而通过摩擦产生的静电会将充电的载体和墨粉依附在鼓表面。5)ATDC(磁通密度传感器/自动墨粉传感器):显影剂中的载体与墨粉(即墨粉浓度)应保持固定的比例,从而才能打印出正常的图像。ATDC通过磁桥电路检测显影剂中的墨粉的比率。当传感器探测到墨粉量不足时,它会驱动墨粉电机从墨粉盒中添加新粉。苏州品牌涂胶显影机量大从优干燥系统由送风管和胶辊组成,通过吹风和加热使印版迅速干燥,将印版送出。
片传动方式基本分为两类:齿轮传动:胶片在洗片机输片片路中,大都由自由转动的滑轮组支承并在滑轮间螺旋穿行,由滑轮组配备的传递动力的输片齿轮通过影片片孔硬性传动。这种方法结构简单,容易保证张力均匀分布。摩擦传动:用表面有凸起物的弹性塑料圈外套的摩擦轮带动影片,摩擦轮的转速由胶片张力自行调节。摩擦传动不用齿轮,同一台机器可以冲洗窄宽不同的多种规格的胶片,并且不会损伤片孔,因此用途极为***。机器具有速度误差在±2%以内的无级调速装置,供改变显影时间之需要。在紧邻供收片处有储片缓冲装置,因此在运行不间断的状态下,可在机器头尾卡住胶片,收取冲洗完毕的影片和续接尚未冲洗的影片。
单组份跳动式显影单组份跳动式显影在单组份显影系统,墨粉通过与显影套筒摩擦进行充电,并在通过磁穗刮板时被充电,通过磁穗刮板后,墨粉在显影套筒上形成均匀的一层。当墨粉层到达显影套筒距感光鼓**近的地方时,墨粉在磁极的电场作用下在感光鼓和显影套筒之间移动。然后,当显影套筒旋转通过距离感光鼓**近的地方时,由于显影偏压和感光鼓表面之间的电压差,墨粉被吸附到已曝光过的感光鼓表面,进行显影。另一方面,在未曝光过的感光鼓表面,墨粉被显影套筒吸引而不进行显影。当墨粉到达感光鼓和显影套筒很大的区域时,由于电场消失,墨粉将被吸附在显影套筒上。这样显影过程就完成了。 [2]根据版材厚度范围调节,保证显影宽容度。
涂胶显影机是一种用于印刷电路板(PCB)制造过程中的设备,主要用于涂覆光敏胶(光刻胶)和显影处理。这种设备在PCB生产中起着关键作用,确保电路图案的精确转移和显现。涂胶显影机的主要功能:涂胶:将光敏胶均匀涂覆在PCB基板上,确保胶层的厚度和均匀性,以便后续的曝光和显影过程。显影:通过化学处理去除未曝光的光敏胶,显现出电路图案。显影过程需要控制时间和温度,以确保图案的清晰度和准确性。干燥:在涂胶和显影后,通常需要对PCB进行干燥,以去除多余的溶剂,确保胶层的稳定性。具体参数需根据版材和显影液类型来设定。江苏国产涂胶显影机供应商家
调节上胶辊之间的压力,可调节上胶的厚薄,保证上胶。苏州品牌涂胶显影机量大从优
匀胶显影机是完成除曝光以外的所有光刻工艺的设备,包括光刻材料的涂布、烘烤、显影、晶圆背面的清洗以及用于浸没式工艺的晶圆表面的去离子水冲洗等。匀胶显影机一般由四部分组成。***部分是晶圆盒工作站(wafer cassette station),晶圆盒在这里装载到机器上。机械手(robot arm)从晶圆盒中把晶圆抽出来,传送到工艺处理部分(process block),即第二部分。工艺处理部分是匀胶显影机的主体,增粘模块(adhesion enhancement)、热盘(hot plate)、冷盘(chill plate)、旋涂、显影等主要工艺单元都安装在这里,一个或两个机械手在各单元之间传递晶圆。第三部分是为浸没式光刻工艺配套的单元,包括晶圆表面水冲洗单元、背清洗单元等。第四部分是和光刻机联机的接口界面(interface),包括暂时储存晶圆的缓冲盒(buffer)、晶圆边缘曝光(wafer edge exposure,WEE)和光刻机交换晶圆的接口等。 [1]苏州品牌涂胶显影机量大从优
无锡凡华半导体科技有限公司在同行业领域中,一直处在一个不断锐意进取,不断制造创新的市场高度,多年以来致力于发展富有创新价值理念的产品标准,在江苏省等地区的电工电气中始终保持良好的商业口碑,成绩让我们喜悦,但不会让我们止步,残酷的市场磨炼了我们坚强不屈的意志,和谐温馨的工作环境,富有营养的公司土壤滋养着我们不断开拓创新,勇于进取的无限潜力,凡华供应携手大家一起走向共同辉煌的未来,回首过去,我们不会因为取得了一点点成绩而沾沾自喜,相反的是面对竞争越来越激烈的市场氛围,我们更要明确自己的不足,做好迎接新挑战的准备,要不畏困难,激流勇进,以一个更崭新的精神面貌迎接大家,共同走向辉煌回来!
将胶浆(包括溶剂胶浆、胶乳和水胶浆)均匀地涂覆到织物表面上的工艺。涂胶方法有刮涂、辊涂、浸涂和喷涂四种。制造很薄的胶布(0.15mm以内),而又要求有较高耐透气性与耐水性时,适宜用涂胶法多次涂胶。若织物强度很小,经不起压延贴胶压力时,宜用涂胶法。织物先涂胶而后压延贴胶,可显著提高纤维与胶料的黏结力。...
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