山东水油光刻胶工厂

作为东莞松山湖的企业，吉田半导体深耕光刻胶领域 23 年，成功研发出 YK-300 半导体正性光刻胶与 JT-2000 纳米压印光刻胶。YK-300 适用于 45nm 及以上制程，线宽粗糙度（LWR）≤3nm，良率达 98% 以上，已通过中芯国际等晶圆厂验证；JT-2000 突破耐高温极限，在 250℃复杂环境下仍保持图形稳定性，适用于 EUV 光刻前道工艺。依托进口原材料与全自动化生产工艺，产品通过 ISO9001 认证及欧盟 RoHS 标准，远销全球并与跨国企业建立长期合作，加速国产替代进程。深圳光刻胶厂家哪家好？山东水油光刻胶工厂

广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，各有特性与优势，适用于不同领域。

LCD 正性光刻胶 YK - 200：具有较大曝光、高分辨率、良好涂布和附着力的特点，重量 100g。适用于液晶显示领域的光刻工艺，能确保 LCD 生产过程中图形的精确转移和良好的涂布效果。

半导体正性光刻胶 YK - 300：具备耐热耐酸、耐溶剂性、绝缘阻抗和紧密性，重量 100g。主要用于半导体制造工艺，满足半导体器件对光刻胶在化学稳定性和电气性能方面的要求。

耐腐蚀负性光刻胶 JT - NF100：重量 1L，具有耐腐蚀的特性，适用于在有腐蚀风险的光刻工艺中，比如一些特殊环境下的半导体加工或电路板制造。

• YK-300 正性光刻胶：分辨率达 0.35μm，线宽粗糙度（LWR）≤3nm，适用于 45nm 及以上制程，良率达 98% 以上，成本较进口产品降低 40%，已通过中芯国际量产验证。
• SU-3 负性光刻胶：支持 3μm 厚膜加工，抗深蚀刻速率 > 500nm/min，成功应用于高通 5G 基带芯片封装，良率提升至 98.5%。
• JT-2000 纳米压印光刻胶：突破 250℃耐高温极限，图形保真度 > 95%，性能对标德国 MicroResist 系列，已应用于国产 EUV 光刻机前道工艺。

正性光刻胶的工艺和应用场景。山东水油光刻胶工厂

1. 技术：自主研发的光刻胶产品具备高分辨率（如 JT-3001 厚板光刻胶）、高感光度（如 JT-1000 负性光刻胶）及抗深蚀刻性能，部分指标达到水平。
2. 严苛品控：生产过程严格遵循 ISO9001 体系，材料进口率 100%，并通过 8S 现场管理确保制程稳定性。
3. 定制化服务：支持客户需求定制，例如为特殊工艺开发光刻胶，满足多样化场景需求。