企业商机

安徽UV纳米光刻胶国产厂家

• 化学反应： ◦ 正性胶：曝光后光敏剂（如重氮醌DQN）分解，生成羧酸，在碱性显影液中溶解； ...

光刻胶基本参数

品牌
吉田半导体
型号
型号齐全

光刻胶企业商机

• 化学反应：

◦ 正性胶：曝光后光敏剂（如重氮醌DQN）分解，生成羧酸，在碱性显影液中溶解；

◦ 负性胶：曝光后光敏剂引发交联剂与树脂形成不溶性网状结构。

5. 显影（Development）

• 显影液：

◦ 正性胶：碱性水溶液（如0.26N四甲基氢氧化铵TMAH），溶解曝光区域；

◦ 负性胶：有机溶剂（如二甲苯、醋酸丁酯），溶解未曝光区域。

• 方法：喷淋显影（PCB）或沉浸式显影（半导体），时间30秒-2分钟，需控制显影液浓度和温度。

6. 后烘（Post-Bake）

• 目的：固化胶膜，提升耐蚀刻性和热稳定性。

• 条件：

◦ 温度：100-150℃（半导体用正性胶可能更高，如180℃）；

◦ 时间：15-60分钟（厚胶或高耐蚀需求时延长）。

7. 蚀刻/离子注入（后续工艺）

• 蚀刻：以胶膜为掩膜，通过湿法（酸碱溶液）或干法（等离子体）刻蚀基板材料（如硅、金属、玻璃）；

• 离子注入：胶膜保护未曝光区域，使杂质离子只能注入曝光区域（半导体掺杂工艺）。

8. 去胶（Strip）

• 方法：

◦ 湿法去胶：强氧化剂（如硫酸+双氧水）或有机溶剂（如N-甲基吡咯烷酮NMP）；

◦ 干法去胶：氧等离子体灰化（半导体领域，无残留）。

吉田半导体：以技术革新驱动光刻胶产业升级。安徽UV纳米光刻胶国产厂家

广东吉田半导体材料有限公司成立于松山湖经济技术开发区，是一家专注于半导体材料研发、生产与销售的技术企业。公司注册资本 2000 万元，拥有 23 年行业经验，产品涵盖芯片光刻胶、纳米压印光刻胶、LCD 光刻胶、半导体锡膏、焊片及靶材等，服务全球市场并与多家世界 500 强企业建立长期合作关系。

作为国家技术企业，吉田半导体以科技创新为驱动力，拥有多项技术，并通过 ISO9001:2008 质量体系认证。生产过程严格遵循 8S 现场管理标准，原材料均采用美、德、日等国进口的材料，确保产品质量稳定可靠。公司配备全自动化生产设备，具备行业大型的规模化生产能力，致力于成为 “半导体材料方案提供商”。

其明星产品包括：适用于 LCD 制造的正性光刻胶 YK-200/YK-300，具备高分辨率与优异涂布性能；3 微米负性光刻胶 SU-3，适用于厚膜工艺；耐高温达 250℃的纳米压印光刻胶 JT-2000，可满足高精度微纳加工需求。所有产品均符合要求，部分型号通过欧盟 ROHS 认证。

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广东吉田半导体材料有限公司多种光刻胶产品，各有特性与优势，适用于不同领域。

厚板光刻胶 JT - 3001：具有优异的分辨率和感光度，抗深蚀刻性能良好。符合欧盟 ROHS 标准，保质期 1 年，适用于对光刻精度和抗蚀刻要求较高的厚板加工场景，如一些特殊的电路板制造。

SU - 3 负性光刻胶：分辨率优异，对比度良好，曝光灵敏度高，光源适应。重量为 100g，常用于对曝光精度和光源适应性要求较高的微纳加工、半导体制造等领域。

液晶平板显示器负性光刻胶 JT - 1000：有 1L 和 100g 两种规格，具有优异的分辨率，准确性和稳定性好。主要应用于液晶平板显示器的制造，能满足其对光刻胶高精度和稳定性的需求。

JT - 2000 UV 纳米压印光刻胶：耐强酸强碱，耐高温达 250°C，长期可靠性高，粘接强度高。重量 100g，适用于需要在特殊化学和高温环境下进行纳米压印光刻的工艺，如一些半导体器件的制造。

企业定位与资质

◦ 成立背景：深耕半导体材料行业23年，位于松山湖经济技术开发区，注册资本2000万元，是国家高新技术企业、广东省专精特新企业及广东省创新型中小企业。

◦ 质量体系：通过ISO9001:2008认证，严格执行8S现场管理，原材料源自美国、德国、日本等国，确保产品稳定性。

◦ 市场布局：产品远销全球，与世界500强企业及多家电子加工企业建立长期合作关系，覆盖集成电路、显示面板、先进封装等领域。

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企业优势

◦ 研发能力：拥有多项专利证书，自主研发芯片光刻胶、纳米压印光刻胶等产品，配备全自动化生产设备，具备从材料合成到成品制造的全流程能力。

◦ 产能与品控：采用进口原材料和严格制程管控，确保金属杂质含量低于行业标准（如半导体光刻胶金属杂质<5ppb），良率达99%以上。

吉田半导体的光刻胶产品覆盖芯片制造、显示面板、PCB 及微纳加工等领域，通过差异化技术（如纳米压印、厚膜工艺）和环保特性（水性配方），满足从传统电子到新兴领域（如第三代半导体、Mini LED）的多样化需求。其产品不仅支持高精度、高可靠性的制造工艺，还通过材料创新推动行业向绿色化、低成本化方向发展。吉田半导体光刻胶的优势在于技术全面性、环保创新、质量稳定性及本土化服务，尤其在纳米压印、厚膜工艺及水性胶领域形成差异化竞争力。

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政策支持：500亿加码产业链。安徽UV纳米光刻胶国产厂家

主要优势：细分领域技术突破与产业链协同

技术积累与自主化能力

公司拥有23年光刻胶研发经验，实现了从树脂合成、光引发剂制备到配方优化的全流程自主化。例如，其纳米压印光刻胶通过自主开发的树脂体系，分辨率达3μm，适用于MEMS传感器、光学器件等领域，填补了国内空白。

技术壁垒：掌握光刻胶主要原材料（如树脂、光酸）的合成技术，部分原材料纯度达PPT级，金属离子含量低于0.1ppb，良率超99%。

产品多元化与技术化布局

产品线覆盖芯片光刻胶、纳米压印光刻胶、LCD光刻胶、半导体锡膏等，形成“光刻胶+配套材料”的完整体系。例如：

◦ LCD光刻胶：适配AMOLED、Micro LED等新型显示技术，与京东方、TCL华星合作开发高分辨率产品，良率提升至98%。

◦ 半导体锡膏：供应华为、OPPO等企业，年采购量超200吨，用于5G手机主板封装。

技术化延伸：计划2025年启动半导体用KrF光刻胶研发，目标进入中芯国际、长江存储供应链。

质量控制与生产能力

通过ISO9001:2008质量体系认证，生产环境执行8S管理，原材料采用美、德、日进口高质量材料。拥有全自动化生产线，年产能达2000吨（光刻胶及配套材料），支持大规模订单交付。

安徽UV纳米光刻胶国产厂家

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