企业商机
光刻胶基本参数
  • 品牌
  • 吉田半导体
  • 型号
  • 型号齐全
光刻胶企业商机

纳米电子器件制造

• 半导体芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻胶(分辨率≤10nm)用于制备晶体管栅极、纳米导线等关键结构,实现芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶体管)。

• 二维材料器件:在石墨烯、二硫化钼等二维材料表面,通过电子束光刻胶定义纳米电极阵列,构建单原子层晶体管或传感器。

 纳米光子学与超材料

• 光子晶体与波导:利用光刻胶制备亚波长周期结构(如光子晶体光纤、纳米级波导弯头),调控光的传播路径,用于集成光路或量子光学器件。

• 超材料设计:在金属/介质基底上刻蚀纳米级“鱼网状”“蝴蝶结”等图案(如太赫兹超材料),实现对电磁波的超常调控(吸收、偏振转换)。
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技术趋势与挑战

 半导体先进制程:

◦ EUV光刻胶需降低缺陷率(目前每平方厘米缺陷数<10个),开发低粗糙度(≤5nm)材料;

◦ 极紫外吸收问题:胶膜对13.5nm光吸收率高,需厚度控制在50-100nm,挑战化学增幅体系的灵敏度。

 环保与低成本:

◦ 水性负性胶替代溶剂型胶(如PCB阻焊胶),减少VOC排放;

◦ 单层胶工艺替代多层胶,简化流程(如MEMS厚胶的一次性涂布)。

 新兴领域拓展:

◦ 柔性电子:开发耐弯曲(曲率半径<5mm)、低模量感光胶,用于可穿戴设备电路;

◦ 光子芯片:高折射率胶(n>1.8)制作光波导,需低传输损耗(<0.1dB/cm)。

典型产品与厂商

• 半导体正性胶:

◦ 日本信越(Shin-Etsu)的ArF胶(分辨率22nm,用于12nm制程);

◦ 美国陶氏(Dow)的EUV胶(灵敏度10mJ/cm²,缺陷密度<5个/cm²)。

• PCB负性胶:

◦ 中国容大感光(LP系列):耐碱性蚀刻,厚度20-50μm,国产化率超60%;

◦ 日本东京应化(TOK)的THMR-V:全球PCB胶市占率30%,适用于高可靠性汽车板。

• MEMS厚胶:

◦ 美国陶氏的SU-8:实验室常用,厚度5-200μm,分辨率1μm(需优化交联均匀性);

◦ 德国Microresist的MR胶:耐深硅蚀刻,线宽精度±2%,用于工业级MEMS制造。

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聚焦先进封装需求,吉田半导体提供从光刻胶到配套材料的一站式服务,助力高性能芯片制造。
在 5G 芯片与 AI 处理器封装领域,吉田半导体研发的 SU-3 负性光刻胶支持 3μm 厚膜加工,抗深蚀刻速率 > 500nm/min,为高密度金属互连提供可靠支撑。其 BGA 助焊膏采用低温固化技术(180℃),焊接空洞率 < 5%;针筒锡膏适用于 01005 超微型元件,印刷精度达 ±5μm。通过标准化实验室与快速响应团队,公司为客户提供工艺优化建议,帮助降低生产成本,增强市场竞争力。

吉田半导体获评 "专精特新" 企业,行业技术标准,以技术创新与标准化生产为,吉田半导体荣获 "广东省专精特新企业" 称号,树立行业。
凭借在光刻胶领域的表现,吉田半导体获评 "广东省专精特新企业"" ",承担多项国家 02 专项课题。公司主导制定《半导体光刻胶用树脂技术规范》等行业标准,推动国产材料标准化进程。未来,吉田半导体将继续以" 中国半导体材料方案提供商 "为愿景,深化技术研发与市场拓展,为全球半导体产业发展贡献" 中国力量 "。吉田半导体全系列产品覆盖,满足多元化需求。

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以无卤无铅配方与低 VOC 工艺为,吉田半导体打造环保光刻胶,助力电子产业低碳转型。面对全球环保趋势,吉田半导体推出无卤无铅锡膏与焊片,通过欧盟 RoHS 认证,焊接可靠性提升 30%。其 LCD 光刻胶采用低 VOC 配方(<50g/L),符合欧盟 REACH 法规,生产过程中通过多级废气处理与水循环系统,实现零排放。公司严格执行 8S 现场管理,工业固废循环利用率超 90%,为新能源汽车、光伏储能等领域提供绿色材料解决方案,成为全球客户信赖的环保材料供应商。光刻胶是有什么东西?青岛激光光刻胶国产厂家

告别显影残留!化学增幅型光刻胶助力封装。内蒙古网版光刻胶

技术优势:23年研发沉淀与细分领域突破

 全流程自主化能力
吉田在光刻胶研发中实现了从树脂合成、光引发剂制备到配方优化的全流程自主化。例如,其纳米压印光刻胶通过自主开发的树脂体系,实现了3μm的分辨率,适用于MEMS传感器、光学器件等领域。
技术壁垒:公司拥有23年光刻胶研发经验,掌握光刻胶主要原材料(如树脂、光酸)的合成技术,部分原材料纯度达PPT级。

 细分领域技术先进

◦ 纳米压印光刻胶:在纳米级图案化领域(如量子点显示、生物芯片)实现技术突破,分辨率达3μm,填补国内空缺。

◦ LCD光刻胶:针对显示面板行业需求,开发出高感光度、高对比度的光刻胶,适配AMOLED、Micro LED等新型显示技术。

 研发投入与合作
公司2018年获高新技术性企业认证,与新材料领域同伴们合作开发半导体光刻胶,计划2025年启动半导体用KrF光刻胶研发。
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