浙江激光粒度粒形分析仪厂家

仪器的主要参数为：测量范围：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋转速度可选：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，标准分析圆盘：CR-39聚合物（耐有机溶剂和水溶液），可选配：低密度样品分析扩展、变速圆盘；自动密度梯度液生成器（型号AG300）；自动进样器（型号AS200）；标定用标准颗粒。激光粒度仪根据光学衍射和散射的原理，从激光器发出的激光束经显微物镜聚集，滤波和准直后，变成直径约10mm的平行光束，该光束照射到待测的颗粒上，就发生了散射，散射光经傅立叶透镜后，照射到光电探测器上的任一点都对应于某一确定的散射角。驰光机电严格控制原材料的选取与生产工艺的每个环节，保证产品质量不出问题。浙江激光粒度粒形分析仪厂家

质量控制是保证分析仪准确性和可靠性的关键措施之一。通过质量控制，可以发现仪器性能的变化和误差来源。质量控制包括空白测试、重复测试、加标测试等方法。在实验过程中，定期进行质量控制测试，并将结果与已知标准进行比较，以确保分析仪的准确性和可靠性。数据验证和审核是保证分析仪结果可靠性的重要环节。在实验过程中，应对获得的实验数据进行验证和审核。这包括检查数据的完整性和一致性、比较不同实验数据之间的关系、评估异常值等。如果发现异常或不符合预期的结果，应进行深入调查，并采取适当的措施进行纠正。浙江激光粒度粒形分析仪厂家驰光愿和各界朋友真诚合作一同开拓。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！

高灵敏度：即使只有1微克样品，CPS也能得到一个准确的粒度分布结果。快速、高精度数模(A/D)转换：可用信号分辨率(即软件操作的数据对象)决定于数模转换(A/D)过程。CPS系统使用的数模转换可以实现在每秒31次取样时保持20位以上的精度，即百万分之一的误差。快速检测头响应：CPS系统的检测头和电路设计允许在95%精度下0.1秒的响应速度，而同类产品的响应时间为1-4秒。这一出众的快速移动峰值检测能力较大地扩展了测量的动态范围，比同类型产品提供高出4倍多的分析速度。驰光机电科技以发展求壮大，就一定会赢得更好的明天。

根据实验要求对仪器进行必要的调整和校准，以确保测量结果的准确性和可靠性。严格按照操作规程进行实验，在实验过程中，操作人员应严格按照操作规程进行实验，不得擅自更改实验条件、操作顺序或省略必要的步骤。同时，要密切观察实验过程，及时发现并解决异常情况。正确记录和处理实验数据，实验结束后，操作人员应正确记录实验数据，并进行必要的处理和分析。确保数据的准确性和可靠性，以便为后续的科研或生产提供有力支持。同时，要整理好实验材料和仪器，保持实验室的整洁和安全。驰光具备雄厚的实力和丰富的实践经验。浙江激光粒度粒形分析仪厂家

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而CMP工艺离不开研磨料的发展，那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面，将抛光垫放置在研磨盘上，抛光时，旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上，由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动，然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下，均匀分布其上，在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。浙江激光粒度粒形分析仪厂家