河北病毒颗粒分析仪厂家

主要特点如下：1.所需样品量少。每次只需要0.1ml，这在疫苗研发、化学合成方面具有较大的优势。2.一次测试可到40多个样品。在前处理准备工作做完以后，可结合标准颗粒一批次测试40多个样品。3.分辨率高。同激光散射和颗粒计数等方法比较，对于样品中即使只有1%峰值差异的颗粒，依旧可以很好地区分测量出来，即可以得到真实的粒度分布结果。4.灵敏度高。低至 10-8g的样品就可以满足日常分析需要。5.分析时间短。和传统沉降法比较，由于采用更快的圆盘转速和高速检测器，因此较大缩短了分析所需时间。驰光机电科技不断提高产品的质量。河北病毒颗粒分析仪厂家

而CMP工艺离不开研磨料的发展，那么对于磨料的颗粒粒度表征就显得尤为重要了。CMP就是用化学腐蚀和机械力对加工过程中的硅晶圆或其它衬底材料进行平滑处理。将硅片固定在抛光头的较下面，将抛光垫放置在研磨盘上，抛光时，旋转的抛光头以一定的压力压在旋转的抛光垫上，由亚微米或纳米磨粒和化学溶液组成的研磨液在硅片表面和抛光垫之间流动，然后研磨液在抛光垫的传输和离心力的作用下，均匀分布其上，在硅片和抛光垫之间形成一层研磨液液体薄膜。河北病毒颗粒分析仪厂家驰光机电受行业客户的好评，值得信赖。

颗粒形状信息很重要，混合样品或未知组分样品，需要高分辨率的数量分布来准确分析样品中的少数特殊颗粒，正在考虑将实验室检测扩大到工业规模的检测，我们还提供原位在线粒形分析系统，可用于高温，高压以及腐蚀性环境。动态测量系统，显微镜同等级的精度真实原始数据的存储，强大的预处理工具，高质量的图像分析结果，可精确测量非球形颗粒，供40个ISO标准粒形参数，包含粒径、形状因子、球形度、圆度、对比和表格，可保存分析测量图像和录保，图像分析结果可追溯。

CPS分析仪基本原理：CPS纳米粒度分析仪依据Stokes定律，V=D²(ρP-ρF)G/18η，即颗粒沉降的速度与颗粒的尺寸平方成正比来进行粒度的测量。待测样品从圆盘中心进入高速旋转的圆盘，在离心力的作用下发生沉降，沉降的速度遵循Stokes公式，在距离圆盘的边缘固定位置设有激光检测器，颗粒按尺寸大小依次通过探测器，仪器记录颗粒通过探测器的时间，由于所有颗粒走过的路程都一样，因此，颗粒运动所需的时间与颗粒本身尺寸的平方成反比，激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度。以客户至上为理念，为客户提供咨询服务。

CMP(化学机械抛光)工艺中磨料颗粒的高精度粒径表征随着半导体工业飞速发展，电子器件尺寸缩小，要求晶片表面平整度达到纳米级。CMP工艺作为芯片制造业不可或缺的一个部分，其对于磨料的颗粒粒度表征要求十分重要。CMP过程中使用的磨料颗粒典型尺寸范围是10-200nm，其颗粒表征要求精确地确定纳米级颗粒的尺寸，因此高分辨率纳米粒度分析仪是磨料颗粒表征的完美解决方案。磨料对CMP工艺起着至关重要的作用！欢迎选用CPS纳米粒度分析仪为您完美解决磨料颗粒问题！山东驰光机电科技有限公司不断从事技术革新，改进生产工艺，提高技术水平。河北病毒颗粒分析仪厂家

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激光检测器同时检测颗粒对光的散射程度，根据米氏散射理论，得出不同尺寸颗粒的相对含量，从而得到颗粒粒径的分布曲线。主要参数：测量范围：0.005-75μm，光源：405nmLED，旋转速度：12.000RPM、18.000RPM、24.000RPM，标准分析圆盘：CR-39聚合物（耐有机溶剂和水溶液），可选 配：低密度样品分析扩展、变速圆盘；自动密度梯度液生成器（型号AG300）；自动进样器（型号AS200）；标定用标准颗粒。半导体CMP用抛光垫、清洗液、修整盘、抛光液、纳米研磨粒子以及OLED显示光敏聚酰亚胺、封装墨水、低温光阻材料等20余款“卡脖子”材料。河北病毒颗粒分析仪厂家

山东驰光机电科技有限公司拥有机电科技领域内的技术开发、技术咨询、技术服务；机电设备、仪器仪表设计、生产、销售；阀门、换热器设备销售。公司生产销售分析仪表，引进德国技术和零配件完全原装进口，高标准生产。产品为浊度分析仪， 色度分析仪，浓度分析仪，水中油分析仪，油中水分析仪，微量水分析仪，适用于压力比较高 325bar，温度比较高 240℃的场合。等多项业务，主营业务涵盖分析仪，在线监测，在线分析，流量计。一批专业的技术团队，是实现企业战略目标的基础，是企业持续发展的动力。公司以诚信为本，业务领域涵盖分析仪，在线监测，在线分析，流量计，我们本着对客户负责，对员工负责，更是对公司发展负责的态度，争取做到让每位客户满意。一直以来公司坚持以客户为中心、分析仪，在线监测，在线分析，流量计市场为导向，重信誉，保质量，想客户之所想，急用户之所急，全力以赴满足客户的一切需要。