衬底粗磨减薄砂轮是半导体制造中的关键工具,尤其在晶圆衬底减薄工艺中发挥着不可替代的作用。随着新能源汽车、轨道交通、消费电子等行业的快速发展,市场对于芯片和功率器件的性能要求越来越高,这直接推动了衬底粗磨减薄砂轮技术的不断进步。在江苏优普纳科技有限公司,我们专注于研发和生产品质高的衬底粗磨减薄砂轮,以满足客户日益增长的需求。我们的砂轮采用先进的金刚石磨料和品质高结合剂,确保在粗磨过程中具有出色的磨削效率和稳定性,同时能更大限度地减少晶圆表面的损伤,提高芯片良率。通过优化砂轮的基体设计,优普纳产品有效减少加工过程中的振动,提升加工精度,增强冷却效果 延长使用寿命。第三代砂轮规格
江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮,展现了强大的设备适配性。其基体优化设计能够根据客户不同设备需求进行定制,无论是东京精密还是DISCO的减薄机,都能完美适配。这种强适配性不只减少了客户在设备调整上的时间和成本,还确保了加工过程的高效性和稳定性。在DISCO-DFG8640减薄机的实际应用中,无论是粗磨还是精磨,优普纳砂轮都能保持稳定的性能,满足不同加工需求。这种综合优势,使得优普纳的砂轮在市场上更具竞争力,能够快速响应客户需求,为客户提供一站式的解决方案。晶圆砂轮适配设备优普纳碳化硅晶圆减薄砂轮在性能和质量上不断突破,为国产半导体加工设备及耗材的自主可控发展贡献力量。
针对不同磨床特性,优普纳提供基体优化设计服务,通过调整砂轮结构(如孔径、厚度、沟槽)增强与设备的匹配度。例如,为适配DISCO-DFG8640高速减薄机,优普纳开发了增强型冷却流道砂轮,使8吋SiC晶圆加工效率提升25%,磨耗比控制在30%以内。客户可根据自身设备型号、晶圆尺寸(4吋/6吋/8吋)及工艺阶段(粗磨/精磨)灵活选择砂轮方案,实现“一机一策”的精确适配。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮,品质有保证,欢迎您的随时致电咨询,为您提供满意的产品以及方案。
在科技日新月异的当下,非球面微粉砂轮行业的技术创新浪潮汹涌澎湃,江苏优普纳科技有限公司始终勇立潮头。在结合剂技术创新方面,公司取得了重大突破。例如,研发出一种新型复合结合剂,融合了树脂结合剂的良好自锐性与金属结合剂的高刚性。这种结合剂在保证磨粒牢固把持的同时,极大地提升了砂轮的自锐性能,使砂轮在磨削过程中能始终保持高效切削状态,大幅提高了加工效率与表面质量。在磨粒制备技术上,优普纳针对不同光学材料的加工特性,开发出一系列定制化磨粒。对于硬度较高的光学玻璃材料,通过优化金刚石微粉磨粒的粒径、形状及表面处理工艺,使其在磨削时能更高效地切入材料,降低磨削力,减少工件表面损伤风险。此外,在砂轮制造工艺上,引入先进的自动化生产设备与高精度检测技术。自动化设备实现了对砂轮制造过程的精确控制,从磨粒与结合剂的混合比例到砂轮成型的每一个环节,都能确保高度一致性;高精度检测技术则对砂轮的各项性能指标进行实时监测,保证每一片出厂的砂轮都具备稳定且优越的性能,持续推动非球面微粉砂轮技术迈向新高度,为行业发展注入源源不断的活力。从材料特性分析到加工工艺定制,优普纳为客户提供全方面的解决方案,确保不同应用场景下的高效性和稳定性。
优普纳砂轮以国产价格提供进口品质,单次加工成本降低40%。例如,进口砂轮精磨8吋SiC晶圆磨耗比通常超过250%,而优普纳产品只需200%,且Ra≤3nm的精度完全满足5G、新能源汽车芯片制造需求。客户反馈显示,国产替代后设备停机更换频率减少50%,年维护成本节省超百万元。针对不同设备(如DISCO-DFG8640、东京精密HRG200X),优普纳提供基体优化设计砂轮,增强冷却液流动性,减少振动。支持定制2000#至30000#磨料粒度,适配粗磨、半精磨、精磨全工艺。案例中,6吋SiC晶圆使用30000#砂轮精磨后TTV≤2μm,表面质量达国际先进水平。通过与国内外主流减薄设备的完美适配,优普纳砂轮为客户提供灵活加工解决方案,提升生产效率降低综合成本。氮化镓砂轮案例
碳化硅晶圆减薄砂轮超细金刚石磨粒与超高自锐性结合,实现高磨削效率与低损伤 表面粗糙度Ra≤3nm TTV≤2μm。第三代砂轮规格
针对第三代半导体材料(SiC/GaN)的减薄需求,优普纳砂轮适配6吋、8吋晶圆,满足衬底片粗磨、精磨全流程。以东京精密HRG200X设备为例,6吋SiC线割片采用2000#砂轮粗磨,磨耗比只15%,Ra≤30nm;精磨使用30000#砂轮,磨耗比120%,Ra≤3nm,TTV稳定在2μm以下。DISCO设备案例中,8吋晶圆精磨后TTV≤2μm,适配性强,可替代日本、德国进口产品。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮,品质有保证,欢迎您的随时致电咨询,为您提供满意的产品以及方案。第三代砂轮规格