高性能砂轮选购

针对第三代半导体材料（SiC/GaN）的减薄需求，优普纳砂轮适配6吋、8吋晶圆，满足衬底片粗磨、精磨全流程。以东京精密HRG200X设备为例，6吋SiC线割片采用2000#砂轮粗磨，磨耗比只15%，Ra≤30nm；精磨使用30000#砂轮，磨耗比120%，Ra≤3nm，TTV稳定在2μm以下。DISCO设备案例中，8吋晶圆精磨后TTV≤2μm，适配性强，可替代日本、德国进口产品。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮，品质有保证，欢迎您的随时致电咨询，为您提供满意的产品以及方案。从粗磨到精磨，优普纳砂轮在DISCO-DFG8640减薄机上的应用，验证了其在不同加工阶段的稳定性和高效性。高性能砂轮选购

随着半导体行业的快速发展，超薄晶圆的需求持续增长。这对衬底粗磨减薄砂轮提出了更高的挑战。江苏优普纳科技有限公司紧跟行业发展趋势，致力于研发更先进的砂轮技术和制造工艺。我们通过与高校、科研机构的合作，不断探索新的磨料、结合剂和制备技术，以提高砂轮的磨削效率和加工质量。同时，我们还注重环保型砂轮的研发和推广，积极响应国家对于绿色制造的号召。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮，品质有保证，欢迎您的随时致电咨询，为您提供满意的产品以及方案。晶圆减薄砂轮源头工厂优普纳碳化硅晶圆减薄砂轮，以低磨耗比和高表面质量，打破国外技术垄断 为国内半导体企业提供高性价比选择。

优普纳砂轮以国产价格提供进口品质，单次加工成本降低40%。例如，进口砂轮精磨8吋SiC晶圆磨耗比通常超过250%，而优普纳产品只需200%，且Ra≤3nm的精度完全满足5G、新能源汽车芯片制造需求。客户反馈显示，国产替代后设备停机更换频率减少50%，年维护成本节省超百万元。针对不同设备（如DISCO-DFG8640、东京精密HRG200X），优普纳提供基体优化设计砂轮，增强冷却液流动性，减少振动。支持定制2000#至30000#磨料粒度，适配粗磨、半精磨、精磨全工艺。案例中，6吋SiC晶圆使用30000#砂轮精磨后TTV≤2μm，表面质量达国际先进水平。

在半导体加工领域，精度是衡量产品质量的关键指标。江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮，凭借其专研的强度高微晶增韧陶瓷结合剂和多孔显微组织调控技术，能够实现极高的加工精度。在东京精密-HRG200X减薄机的实际应用中，无论是6吋还是8吋的SiC线割片，加工后的表面粗糙度Ra值均能达到纳米级别，总厚度变化TTV控制在微米级别以内。这种高精度的加工能力，不只满足了半导体制造的需求，还为优普纳在国产碳化硅减薄砂轮市场奠定了坚实的基础，使其成为高精度加工的代名词。凭借低磨耗比和高表面质量，优普纳砂轮在市场竞争中脱颖而出，成为推动国产化替代进程的重要力量。

江苏优普纳科技有限公司的碳化硅晶圆减薄砂轮，以其低损耗特性成为半导体加工领域的理想选择。其独特的多孔显微组织调控技术，使得砂轮在高磨削效率的同时，磨耗比极低。在东京精密-HRG200X减薄机的实际应用中，6吋SiC线割片的磨耗比只为15%，而8吋SiC线割片的磨耗比也只为35%。这意味着在长时间的加工过程中，砂轮的磨损极小，使用寿命更长，为客户节省了大量的成本。低损耗不只体现在砂轮本身的使用寿命上，还体现在加工后的晶圆表面质量上，损伤极小，进一步提升了产品的性价比，助力优普纳在国产化替代进程中占据优势。基体优化设计的优普纳砂轮，减少振动，增强冷却液流动，提升加工效率与质量，适配不同设备，展现强适配性。江苏砂轮更换周期

在东京精密-HRG200X减薄机上，优普纳砂轮对8吋SiC线割片进行精磨，磨耗比300%，Ra≤3nm，TTV≤2μm。高性能砂轮选购

针对不同磨床特性，优普纳提供基体优化设计服务，通过调整砂轮结构（如孔径、厚度、沟槽）增强与设备的匹配度。例如，为适配DISCO-DFG8640高速减薄机，优普纳开发了增强型冷却流道砂轮，使8吋SiC晶圆加工效率提升25%，磨耗比控制在30%以内。客户可根据自身设备型号、晶圆尺寸（4吋/6吋/8吋）及工艺阶段（粗磨/精磨）灵活选择砂轮方案，实现“一机一策”的精确适配。江苏优普纳科技有限公司专业生产砂轮，品质有保证，欢迎您的随时致电咨询，为您提供满意的产品以及方案。高性能砂轮选购