企业商机
真空镀膜设备基本参数
  • 品牌
  • BLLVAC
  • 型号
  • BLL-1660RS
  • 自动线类型
  • 线材和带材电动自动线
  • 电源类型
  • 直流,交流,脉冲
  • 镀种
  • 镀银系列,镀铜系列,镀金系列,镀锡系列,镀镍系列,可镀化合物膜、保护膜、功能膜、多层膜等。
  • 加工定制
  • 温度控制精度
  • 0-200
  • 最小孔径
  • 800
  • 额定电压
  • 380
  • 额定功率
  • 30-80
  • 适用领域
  • 用于光学镜片、电子半导体、纺织装备、通用机械、刀具模具、汽车
  • 工作温度
  • 150
  • 镀槽规格
  • 1660
  • 重量
  • 3000
  • 产地
  • 江苏
  • 厂家
  • 宝来利真空
真空镀膜设备企业商机

因此,即使外腔体10与内反应腔20在气路上相互连通,但外腔体10中的污染物也很难进入到内反应腔20中,从而可以保证内反应腔20始终保持清洁的工艺环境。由此,外腔体10与所述内反应腔20可共用一套抽真空系统。由于外腔体10与内反应腔20之间应属于相互连通的气路环境,因此,当对外腔体10进行抽真空处理时,内反应腔20也同时进行抽真空处理。本实施方式中,自动门设置于所述第二侧壁22上,所述外腔体10内设有传送装置13,所述工件自所述传送装置13经所述自动门23传递至所述内反应腔20中。自动门控制器控制自动门的启闭。抽真空完成后,自动门控制器检测传送装置上是否有工件存在,经检测若有工件存在,则控制自动门打开,工件在传送装置的作用下进入内反应腔中;然后自动门控制器再控制自动门关闭。可以理解的是,传送装置包括转动轴和套设在转动轴上的传送带,以及驱动转动轴旋转的驱动机构,例如电机。其中,传送带的设置高度与内反应腔中的工件反应载台相对应。继续参照图2,为了保证作为工艺区域的内反应腔20的环境温度恒温可控,第二底板21和/或所述第二侧壁22上设有用于对所述内反应腔20进行控温的温控装置,以使内反应腔20内的温度始终处于所需的工艺温度范围内。 宝来利真空镀膜设备性能稳定,膜层均匀耐磨,金属反射膜,有需要可以咨询!浙江手机屏真空镀膜设备生产厂家

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所述顶盖远离所述镀膜机一侧设有动触点;所述第二连接套内侧壁上设有静触点,所述静触点位于所述宝来利真空凹槽与所述抽气管之间;所述动触点与外部电源电性连接;所述静触点与气缸电性连接。进一步地,所述镀膜机靠近所述出气管的侧壁上设有开关及换向器;所述开关分别与所述换向器及所述真空泵电性连接;所述换向器与所述电磁铁电性连接。进一步地,所述顶盖侧壁上设有凹孔。本实用新型的有益效果在于:通过设置电磁铁与磁片,在进行镀膜机内真空抽气时,按下开关,电磁铁通电产生与磁铁相同的磁极,利用磁铁的原理,配合负压的作用,打开顶盖,使得气体从抽气管排出,随后反方向按下开关,电磁铁在换向器的作用下改变电流方向,磁极改变,与磁片的磁极相反,在弹簧的推动下,顶盖紧紧盖在出气管口上,密封性良好,防止镀膜机内真空环境发生变化,保证镀膜过程的正常进行。附图说明为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,下面描述中的附图真空镀膜设备真空镀膜设备是本实用新型的部分实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下。

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避免工艺污染,提供工艺质量。由于设置双腔室,作为工艺反应区的内反应腔20相对较小,因此可以有效减少工艺原料的浪费,降低原料的使用成本,提高原料的利用率。同时,由于工艺反应区的减少,可以有效控制该区域内的温度,使该区域内的工艺温度更易于均匀化,进而提高工艺质量。需要说明的是,内反应腔20位于外腔体10内,但内反应腔20和外腔体10处于可连通状态,并非完全隔绝,当对外腔体10进行抽真空处理时,内反应腔20内也同时进行抽真空操作。外腔体10和内反应腔20处于相互连通的状态,只是在外腔体10内划分出了一个立体空间以进行工艺反应。本实施方式中,参照图2,所述外腔体10包括宝来利真空底板11和沿所述宝来利真空底板11周向设置的宝来利真空侧壁12;所述内反应腔20包括第二底板21和沿所述第二底板21周向设置的第二侧壁22;所述宝来利真空底板11与所述第二底板21相互分离设置,所述宝来利真空侧壁12与所述第二侧壁22相互分离设置;宝来利真空侧壁12与盖设于所述宝来利真空侧壁12上的密封盖板30密闭连接,所述第二侧壁22与所述密封盖板30相互分离设置。该结构中,相当于用第二底板21和第二侧壁22在外腔体10中分割出一个更小的空间。 浙江手机屏真空镀膜设备生产厂家

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真空镀膜设备是一种在真空环境下,通过物理或化学方法将材料(如金属、化合物等)沉积到基材表面,形成薄膜的设备。其原理是利用真空环境消除气体分子干扰,使镀膜材料以原子或分子状态均匀沉积,从而获得高纯度、高性能的薄膜。主要组成部分真空腔体:提供镀膜所需的真空环境,通常配备机械泵、分子泵等抽气系统。镀膜源:蒸发源:通过电阻加热或电子束轰击使材料蒸发。溅射源:利用离子轰击靶材,使靶材原子溅射沉积。离子镀源:结合离子轰击与蒸发,增强薄膜附着力。基材架:固定待镀基材,可旋转或移动以实现均匀镀膜。控制系统:监控真空度、温度、膜厚等参数,确保工艺稳定性。宝来利真空镀膜设备性能稳定,膜层均匀耐磨,金色氮化钛,有需...

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