企业商机
真空镀膜设备基本参数
  • 品牌
  • BLLVAC
  • 型号
  • BLL-1660RS
  • 自动线类型
  • 线材和带材电动自动线
  • 电源类型
  • 直流,交流,脉冲
  • 镀种
  • 镀银系列,镀铜系列,镀金系列,镀锡系列,镀镍系列,可镀化合物膜、保护膜、功能膜、多层膜等。
  • 加工定制
  • 温度控制精度
  • 0-200
  • 最小孔径
  • 800
  • 额定电压
  • 380
  • 额定功率
  • 30-80
  • 适用领域
  • 用于光学镜片、电子半导体、纺织装备、通用机械、刀具模具、汽车
  • 工作温度
  • 150
  • 镀槽规格
  • 1660
  • 重量
  • 3000
  • 产地
  • 江苏
  • 厂家
  • 宝来利真空
真空镀膜设备企业商机

提升了清理效率。附图说明图1为本实用新型结构示意图。图2为本实用新型的结构示意俯视图。图中:1控制箱、2前罐体、3后罐体、4清理装置、41通孔、42喷头、43刮板、44u形架、5驱动装置、51半圆槽、52半圆板、53转轴通孔、54减速电机、55防护罩、6泵、7集料盒、71出料口、72外螺管、73收集盒、8清洗箱。具体实施方式下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例**是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。请参阅图1、图2,本实用新型提供一种技术方案:一种磁控溅射真空镀膜机,包括控制箱1,控制箱1的上表面后侧固定安装后罐体3,后罐体3的前表面铰接有前罐体2,后罐体3的前表面上侧固定安装有驱动装置5,驱动装置5,驱动装置5的下侧安装有清理装置4,清理装置4包括u形架44,u形架44的下端通过轴承转动安装在后罐体3的内部下侧,u形架44的外侧固定安装有刮板43,刮板43的外侧与后罐体3、前罐体2的内表面紧密贴合,后罐体3和前罐体2的上表面外侧均匀开设有通孔41。 宝来利真空镀膜设备性能稳定,膜层均匀耐磨,细腻有光泽,有需要可以来咨询!1680真空镀膜设备厂家直销

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这样就可以及时打开密封门,将基板取出准备下一次镀膜,能够有效防止镀膜材料喷溅,且省去坩埚降温的时间,提高了工作效率。(2)、该高分子等离子表面真空镀膜设备,通过腔体左侧的顶部固定连接有电机,并且电机输出轴的一端固定连接有双向螺纹杆,双向螺纹杆表面的两侧且位于腔体的内部均螺纹连接有活动块,两个活动块的底部均固定连接有限位板,电机工作能够调整两个限位板之间的距离,使限位板能够固定不同大小的基板,扩大了适用范围,适用性更强,提高了实用性。附图说明图1为本实用新型结构的立体图;图2为本实用新型结构的剖视图;图3为本实用新型图2中a处的局部放大图;图4为本实用新型宝来利真空密封盖结构的立体图;图5为本实用新型第二密封盖结构的立体图。图中:1腔体、2基板、3坩埚、4支撑腿、5密封门、6支撑板、7防护框、8宝来利真空滑轨、9活动板、10宝来利真空伸缩杆、11第二伸缩杆、12宝来利真空密封盖、13第二密封盖、14加热板、15降温板、16电机、17双向螺纹杆、18活动块、19限位板、20第二滑轨、21抽风机、22风管。具体实施方式下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然。

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所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。本实用新型一种实施方式的真空反应腔室,其结构如图1和图2所示,包括:用于提供真空环境的外腔体10,以及位于所述外腔体10内的用于进行工艺反应的内反应腔20;所述内反应腔20的侧壁上设有自动门23,所述自动门23连接自动门控制器,工件自所述外腔体10经所述自动门23进入所述内反应腔20中。本实施方式提供的真空反应腔室,外腔室和内反应腔20为嵌套结构,其内反应腔20位于外腔室内。该结构中,相当于设置了两个腔室,其中外腔体10用于隔绝大气,提供真空环境,而内反应腔20中的区域为工艺反应区,形成相对封闭的工艺环境,相关工艺反应在内反应腔20中进行。由于采用双腔室结构,可以将工艺模块部件设置于内反应腔20中,而与工艺反应无直接关系的机械模块部件则被设置于外腔室中。经抽真空处理后,位于外腔体10中的工件再经自动门23进入内反应腔20中进行工艺反应,可以有效避免设备杂质和工件杂质进入内反应腔20中。该结构可以避免工艺环境外的污染源进入工艺反应区域。 宝来利汽车车标真空镀膜设备性能稳定,膜层均匀耐磨,细腻有光泽,有需要可以来考察!1680真空镀膜设备厂家直销

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多弧离子镀膜设备是一种常用的薄膜镀膜设备,具有以下优点和宝来利的市场应用:优点:1.高质量膜层:多弧离子镀膜设备可以在物体表面形成均匀、致密、硬度高、抗腐蚀的膜层,提供优异的物理和化学性能。2.高镀膜效率:该设备采用多个电弧源,可同时进行多个材料的镀膜,提高了镀膜效率和生产能力。3.多种材料可镀:多弧离子镀膜设备可用于镀膜各类材料,如金属、合金、陶瓷、塑料等,具有很强的适应性和灵活性。4.环保节能:采用真空技术,减少了材料的浪费和对环境的污染,具有较高的资源利用率和节能效果。市场应用:1.光学膜层:多弧离子镀膜设备被广泛应用于光学领域,如镜片、滤光片、反射镜、透镜等的镀膜,提高了光学元件的透光率和耐磨性。2.金属薄膜:该设备可用于镀膜金属薄膜,如金、银、铜、铝等,广泛应用于电子、航空、汽车等领域,提供装饰性、防腐蚀和导电等功能。3.陶瓷涂层:多弧离子镀膜设备可为陶瓷材料提供保护性涂层,增加其硬度、耐磨性和耐腐蚀性,应用于陶瓷工具、陶瓷模具等领域。4.医疗器械:该设备可用于医疗器械的表面涂层,如人工关节、牙科器械等,提高其生物相容性和耐磨性。1680真空镀膜设备厂家直销

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真空镀膜设备是一种在真空环境下,通过物理或化学方法将材料(如金属、化合物等)沉积到基材表面,形成薄膜的设备。其原理是利用真空环境消除气体分子干扰,使镀膜材料以原子或分子状态均匀沉积,从而获得高纯度、高性能的薄膜。主要组成部分真空腔体:提供镀膜所需的真空环境,通常配备机械泵、分子泵等抽气系统。镀膜源:蒸发源:通过电阻加热或电子束轰击使材料蒸发。溅射源:利用离子轰击靶材,使靶材原子溅射沉积。离子镀源:结合离子轰击与蒸发,增强薄膜附着力。基材架:固定待镀基材,可旋转或移动以实现均匀镀膜。控制系统:监控真空度、温度、膜厚等参数,确保工艺稳定性。宝来利真空镀膜设备性能稳定,膜层均匀耐磨,金色氮化钛,有需...

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