我国是世界上煤炭储量和煤炭产量大的国家,所以我们可以用煤作为原料制氢,这可以占到我们制氢总产量的一半以上。在煤制氢过程中,需要先产生一氧化碳和水的合成气,如焦炉气、水气和半水气。第二步是通过变压吸收法(简称PSA法)和膜分离法将-氧化碳和水的合成气转化为二氧化碳和氢气。在许多情况下,石化、钢铁、焦化工业也是重要的副产物。它们现在也经常采取循环经济的形式,作为这些企业的重要化学原料或燃料。将天然气和石油化学品转化为氢的原理与将煤汽化和将碳焦化为氢的原理是一样的,但生产过程的细节是不同的。天然气和石油产品也可以产生一氧化碳和水的合成气,再通过PSA或膜分离法转化为二氧化碳和氢气,从而生产出高纯氢气。目前,从煤、焦炭或天然气制氢往往走综合利用的道路。将煤层气或天然气与制氢结合,并生产甲醇、醋酸和化肥等化工产品。互助可以使生产大化。未来随着氢能产业迅速发展，氢气储存和运输环节成本下降，焦炉气制氢将具有更好的发展前景。山东99.999%高纯氢气
虽然氢气运输方式众多，但我国主要以气氢拖车运输、气氢管道运输和液氢罐车运输三种运氢方式为主。其中长管拖车运输为当前主流运氢方式，这种方法在技术上已经相当成熟。但由于氢气密度很小，而储氢容器自重大，所运输氢气的重量只占总运输重量的1~2%，运送效率低下。 在大规模运输上，高压气氢的运输效率远低于液态氢，液态氢必然成为未来的主流。氢在液态状况下的体积为气态状态下的1/800，液氢运输效率极高。但是，氢的液化需要极低的温度（在标准大气压，温度低至-253°C氢才能被液化），液化和低温储存成本都很高，技术研发难度大。广东工业高纯氢气厂家现货氢气还可以比其他燃料更有效地转化为各种形式的能源。
氢气(H2)，自然界中小的分子，轻的气体，在我们的生活中具有非常重要的作用，对人体的多种疾病具有的预防和效果，是一种重要的工业原料，是相当有发展前景的清洁能源。氢气(hydrogen)，化学式为H2，是一种双原子气体分子，由两个氢原子通过共用一对电子构成。氢气是自然界中小的分子，轻的气体，密度只有空气的十四分之一。氢气在我们的生活中占据非常重要的地位，由于氢气可以选择性地羟基自由基(∙OH)和过氧亚硝基阴离子(ONOO−)，同时又不影响其他具有生理功能的活性氧物质，可以将氢气应用于医学领域，氢气已被证实对众多的疾病具有的预防和效果。氢气是一种重要的工业原料，可以用于合成氨、甲醇、醛等一些重要的化合物；也可以用作还原剂，还原烯烃、醛、酮等不饱和键，特别是在手性催化剂的存在下进行的不对称氢化，广泛应用于天然产物和药物的合成中。与此同时，氢气作为一种可再生的清洁能源受到人们越来越多的关注。
天然气制氢的本质是用甲烷中的碳代替水中的氢，甲烷作为化学试剂，为置换反应提供热量。大部分氢气来自水，而一小部分来自天然气本身。天然气的主要成分是甲烷（CH4），甲烷本身含有氢气。与基于碳的氢气生产相比，使用天然气生产氢气具有更高的产量、更低的加工成本和更低的温室气体排放。天然气蒸汽转化是一种更常见的制氢方法。在工业甲烷蒸汽转化过程中，使用镍作为催化剂，操作温度为750~920℃，操作压力为2.17~2.86兆帕。更高的压力可以提高工艺效率。反应是吸热的，热量是通过在燃烧室中燃烧甲烷来提供的。从甲烷的蒸汽转化获得的合成气经历高温和低温变换反应，以将一氧化碳转化为二氧化碳和额外的氢气。为了防止甲烷蒸气转化过程中产生碳，在反应过程中需要过量的水蒸气。氢气的终产量取决于所使用的技术路线。氢燃料电池汽车具有零排放、续航里程长等优点，是未来绿色交通的重要发展方向。
在晶体的生长与衬底的制备、氧化工艺、外延工艺中以及化学气相淀积（CVD）技术中，均要用到氢气。半导体工业对气体纯度要求极高，微量杂质的“掺人”，将会改变半导体的表面特性。电子工业中多晶硅的制备需要用到氢。当硅用氯化氢生成三氯氢硅SiHCl3后，经过分馏工艺分离出来，在高温下用氢还原，达到半导体需求的纯度； 在制造非晶硅太阳电池中，也用到纯度很高的氢气；光导纤维的应用和开发是新技术的重要标志之一，石英玻璃纤维是光导纤维的主要类型，在制造过程中，需要采用氢氧焰加热，经数十次沉积，对氢气纯度和洁净度都有很高要求。氢气可以在高温下进行燃烧，适用于需要高温的工业领域，如钢铁、陶瓷等。江西高纯氢气供应商家
通过蒸汽重整直接运输大规模生产的氢气的替代方案是由甲烷或氨等载体进行现场小规模生产。山东99.999%高纯氢气
许多天然食用油具有很大度的不饱和性，经氢化处理后，所行产品可稳定贮存，并能抵抗细菌的生长，提高油的黏度。植物油加氢氢化所用的氢气，纯度要求都很高，一般需严格提纯后方可使用。食用油加氢的产品可加工成人造奶油和食用蛋白质等。非食用油加氢可得到生产肥皂和畜牧业饲料的原料。过程包括用氢饱和不饱和酸(油酸、亚油酸等)的甘油脂，将氢引入到液体脂肪或植物油的组成中。在一些电子材料的生长与衬底的制备、氧化工艺、外延工艺中以及化学气相淀积(CVD)技术中，均要采用氢气作为反应气、还原气或保护气。半导体集成电路生产对气体纯度要求极高，比如氧杂质的允许浓度为10-12等。微量杂质的“掺入”，将会改变半导体的表面特性，甚至使产品成品率降低或造成废品。山东99.999%高纯氢气
