镀膜均匀性高:蒸发源能够在真空环境中较为均匀地向四周散发镀膜材料的气态粒子,只要合理设置工件的位置与角度,就能让镀膜材料均匀地沉积在工件表面,为对镀膜均匀性要求极高的光学镜片提供保障。操作相对简单:设备的结构和镀膜流程相对简洁,对操作人员的技术门槛要求相对较低。在常规的生产环境中,工作人员经过短期培训,便能熟练掌握设备操作,减少了人力培训...
查看详细 >>薄膜质量高纯度高:真空环境是真空镀膜机的一大优势。在高真空状态下,镀膜室内的杂质气体极少。例如,在气相沉积(PVD)过程中,蒸发或溅射出来的镀膜材料原子或分子在几乎没有空气分子干扰的情况下飞向基底。这使得沉积在基底上的薄膜纯度很高,避免了杂质混入导致薄膜性能下降。致密性好:通过真空镀膜形成的薄膜通常具有较好的致密性。以溅射镀膜为例,被溅射...
查看详细 >>可精确控制薄膜特性: 厚度控制精确:真空镀膜机可以精确控制薄膜的厚度。在蒸发镀膜中,通过控制镀膜材料的蒸发速率和镀膜时间,能够准确地得到想要的薄膜厚度。例如,在光学镀膜中,为了达到特定的光学性能,需要将薄膜厚度控制在纳米级精度。一些先进的真空镀膜机可以通过光学监测系统实时监测薄膜厚度,当达到预设厚度时自动停止镀膜过程。 成...
查看详细 >>镀膜系统维护: 蒸发源或溅射靶: 维护蒸发源清洁:对于蒸发镀膜系统,蒸发源在使用后会残留有膜材。每次镀膜结束后,要让蒸发源自然冷却,然后使用专门的清洁工具,如陶瓷刮刀,轻轻刮除蒸发源表面的残留膜材。如果残留膜材过多,会影响下一次镀膜的膜层质量。 溅射靶检查和更换:在溅射镀膜系统中,溅射靶的状态直接影响镀膜效果。要定期...
查看详细 >>溅射镀膜机: 原理与构造:溅射镀膜机借助离子束轰击靶材,使靶材原子或分子溅射出来,在工件表面沉积成膜。设备包含真空室、溅射靶、离子源和真空系统。依据离子源产生方式与工作原理,可分为直流溅射镀膜机、射频溅射镀膜机和磁控溅射镀膜机。直流溅射适用于导电靶材镀膜;射频溅射能对绝缘靶材进行镀膜;磁控溅射则通过引入磁场,提高溅射效率,是目前...
查看详细 >>工艺灵活性高: 可实现多层镀膜:可以根据不同的需求,在同一基底上依次沉积多种不同材料的薄膜,形成多层膜结构,从而实现更加复杂的功能组合。例如在光学镜片上通过镀制多层不同折射率的薄膜,可实现增透、减反、分光等多种光学功能。 可精确控制镀膜参数:操作人员可以根据具体的镀膜材料、基底特性和产品要求,精确地调节镀膜过程中的各项参数...
查看详细 >>镀膜系统维护: 蒸发源或溅射靶: 维护蒸发源清洁:对于蒸发镀膜系统,蒸发源在使用后会残留有膜材。每次镀膜结束后,要让蒸发源自然冷却,然后使用专门的清洁工具,如陶瓷刮刀,轻轻刮除蒸发源表面的残留膜材。如果残留膜材过多,会影响下一次镀膜的膜层质量。 溅射靶检查和更换:在溅射镀膜系统中,溅射靶的状态直接影响镀膜效果。要定期...
查看详细 >>空心阴极离子镀膜机原理:利用空心阴极放电产生高密度的等离子体,使镀膜材料离子化,然后在基体表面沉积形成薄膜。应用行业:在机械制造领域,可在模具、刀具表面镀上氮化钛、碳化钛等硬质涂层,提高模具和刀具的耐磨性、抗腐蚀性和脱模性能;在航空航天领域,用于在发动机叶片等零部件表面镀上耐高温、抗氧化的涂层。多弧离子镀膜机原理:通过多个电弧蒸发源产生金...
查看详细 >>镀膜过程中的正确操作: 合理设置镀膜参数:根据镀膜材料、基底材料和镀膜要求,合理设置镀膜参数,如蒸发功率、溅射功率、气体流量、沉积时间等。避免设置过高的参数,导致设备过度工作。例如,过高的蒸发功率可能使蒸发源材料过快蒸发,不仅浪费材料,还可能使蒸发源过快损耗,同时也可能导致膜层质量下降,如出现膜层厚度不均匀、有颗粒等问题。 ...
查看详细 >>蒸发源或溅射源功能:用于蒸发镀膜材料或溅射靶材,使膜体材料以气态分子的形式释放出来。类型:不同的镀膜方法可能使用不同类型的镀膜源,例如电子束蒸发器、溅射靶材、真空弧放电源等。 控制系统功能:用于监控和控制整个设备的运行状态和参数,包括真空度、温度、压力、时间等。组成:主要包括真空计、流量计、触摸屏、手动操作组和各类电源。通过触摸...
查看详细 >>常压化学气相沉积(APCVD)镀膜机原理:在常压下,利用气态的化学物质在高温下发生化学反应,在基体表面沉积形成固态薄膜。应用行业:在半导体制造中,用于生长二氧化硅、氮化硅等绝缘薄膜,以及多晶硅等半导体材料;在刀具涂层领域,可制备氮化钛等硬质涂层,提高刀具的硬度和耐磨性。低压化学气相沉积(LPCVD)镀膜机原理:在较低的压力下进行化学气相沉...
查看详细 >>夹具和工件架维护: 清洁和检查:夹具和工件架在每次使用后要进行清洁,去除残留的膜材和灰尘。同时,要定期(每季度)检查夹具和工件架的结构完整性,查看是否有变形、损坏的情况。损坏的夹具和工件架可能导致工件固定不牢,影响镀膜质量。 控制系统维护: 软件更新:随着技术的发展,真空镀膜机的控制系统软件可能会有更新。要定期(每年...
查看详细 >>